[發明專利]銅拋光中用的納米二氧化硅磨料拋光液

無效

• 申請號: 200710026159.0
• 申請日: 2007-08-16
• 公開（公告）號: CN101368068A
• 公開（公告）日: 2009-02-18
• 發明（設計）人: 仲躋和
• 申請（專利權）人: 江蘇海迅實業集團股份有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種銅拋光中用的納米二氧化硅磨料拋光液，其特征在于：包括磨料、表面活性劑、絡合劑、PH調節劑以及去離子水；各種組分所占的重量百分比為：磨料I為10％至40％，表面活性劑為5％至20％，絡合劑為0.01％至0.6％，PH調節劑為1％至6％，去離子水為余量。

2.根據權利要求1所述的銅拋光中用的納米二氧化硅磨料拋光液，其特征在于：所述磨料是粒徑為15至200nm的水溶性二氧化硅溶膠。

3.根據權利要求2所述的銅拋光中用的納米二氧化硅磨料拋光液，其特征在于：所述磨料I的粒徑優選20至80nm。

4.根據權利要求1所述的銅拋光中用的納米二氧化硅磨料拋光液，其特征在于：所述表面活性劑為非離子型表面活性劑。

5.根據權利要求4所述的銅拋光中用的納米二氧化硅磨料拋光液，其特征在于：所述非離子型表面活性劑為脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺；所述脂肪醇聚氧乙烯醚是聚合度為20的脂肪醇聚氧乙烯醚(0-20)、聚合度為25的脂肪醇聚氧乙烯醚(0-25)或者聚合度為40的脂肪醇聚氧乙烯醚(0-40)；所述烷基醇酰胺是月桂酰單乙醇胺。

6.根據權利要求1所述的銅拋光中用的納米二氧化硅磨料拋光液，其特征在于：所述PH值調節劑為有機堿、無機堿或它們的組合。

7.根據權利要求6所述的銅拋光中用的納米二氧化硅磨料拋光液，其特征在于：所述無機堿為氫氧化鉀或氫氧化鈉；所述有機堿為多羥多胺和胺中的一種或它們的組合。

8.根據權利要求7所述的銅拋光中用的納米二氧化硅磨料拋光液，其特征在于：所述多羥多胺為三乙醇胺、四羥基乙二胺或六羥基丙基丙二胺；所述胺為乙二胺或四甲基氫氧化銨。

9.權利要求1所述的銅拋光中用的納米二氧化硅磨料拋光液的制備方法，其特征在于，先將所需重量的磨料均勻溶解于去離子水中，然后在千級凈化室的環境內，在真空負壓的動力下，通過質量流量計將表面活性劑液體輸入容器罐中，與容器罐內的所需重量的磨料進行混合并充分攪拌，混合均勻后將拋光液的其余組分加入容器罐內再繼續充分攪拌，混合均勻即制備成成品拋光液。

10.根據權利要求9所述的銅拋光中用的納米二氧化硅磨料拋光液的制備方法，其特征在于：所述千級凈化室的環境溫度為常溫；真空壓力為-10⁵至0Mpa。