[發(fā)明專利]直孔通道平面式場(chǎng)發(fā)射三極結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710022958.0
• 申請(qǐng)日: 2007-05-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101071722A
• 公開(kāi)（公告）日: 2007-11-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 雷威;張曉兵;婁朝剛;李馳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東南大學(xué)
• 主分類號(hào): H01J31/12
• 分類號(hào): H01J31/12;H01J9/20
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 葉連生

1、一種直孔通道平面式場(chǎng)發(fā)射三極結(jié)構(gòu)，其特征是在陰極玻璃基板(1)上設(shè)有數(shù)據(jù)電極(2)，在數(shù)據(jù)電極(2)上設(shè)有介質(zhì)層(3)，該介質(zhì)層(3)中設(shè)有貫穿通道(4)；在介質(zhì)層(3)上設(shè)有連接電極(5)和與數(shù)據(jù)電極垂直的行掃描電極(6)；在連接電極(5)、行掃描電極(6)和介質(zhì)層(3)上設(shè)有具有表面電子傳導(dǎo)特性的場(chǎng)發(fā)射材料(7)；在陰極玻璃基板(1)或介質(zhì)層(3)上設(shè)有支撐體(8)，在支撐體(8)上設(shè)有陽(yáng)極玻璃基板(9)，在陽(yáng)極玻璃基板(9)的下表面設(shè)有陽(yáng)極電極(10)，在陽(yáng)極電極(10)的下表面設(shè)有熒光粉層(11)；在該結(jié)構(gòu)中，連接電極和行掃描電極位于同一平面內(nèi)，連接電極通過(guò)與之相垂直的貫穿通道(4)與數(shù)據(jù)電極相導(dǎo)通。

2.如權(quán)利要求1所述的直孔通道平面式場(chǎng)發(fā)射三極結(jié)構(gòu)，其特征是連接電極(5)與數(shù)據(jù)電極(2)平行，與行掃描電極(6)垂直。

3、如權(quán)利要求1所述的直孔通道平面式場(chǎng)發(fā)射三極結(jié)構(gòu)，其特征是連接電極(5)與行掃描電極(6)間有一小于500微米的間隙。

4、如權(quán)利要求1所述的直孔通道平面式場(chǎng)發(fā)射三極結(jié)構(gòu)，其特征是具有表面電子傳導(dǎo)特性的場(chǎng)發(fā)射材料(7)采用帶有表面電子傳導(dǎo)特性的場(chǎng)發(fā)射納米材料。

5.一種如權(quán)利要求1所述的直孔通道平面式場(chǎng)發(fā)射三極結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征是制備的方法為

a.)在陰極玻璃基板上采用印刷并燒結(jié)或者鍍膜并光刻或者涂敷并燒結(jié)的方法制備數(shù)據(jù)電極，

b.)在數(shù)據(jù)電極上通過(guò)平面印刷或者鍍膜的方式制備平面介質(zhì)層，然后通過(guò)曝光和腐蝕工藝得到貫穿平面介質(zhì)層的直孔陣列；或者通過(guò)絲網(wǎng)印刷工藝直接制備帶有垂直孔道的介質(zhì)層，

c.)在平面介質(zhì)層上采用印刷并燒結(jié)或者鍍膜并光刻或者涂敷并燒結(jié)的方法同時(shí)制備行掃描電極和連接電極，連接電極與數(shù)據(jù)電極平行，并通過(guò)直孔通道與數(shù)據(jù)電極相導(dǎo)通，行掃描電極與數(shù)據(jù)電極相互垂直且絕緣，

d).利用噴涂、鍍膜或涂敷方法在行掃描電極和連接電極之間制備具有帶有表面電子傳導(dǎo)特性的場(chǎng)發(fā)射材料，

e.)在介質(zhì)層上制備支撐體，

f.)在帶透明導(dǎo)電膜陽(yáng)極玻璃基板的透明導(dǎo)電膜一側(cè)上制備熒光粉層，將陰極玻璃基板與陽(yáng)極玻璃基板封接排氣，形成器件內(nèi)的真空工作環(huán)境。