[發明專利]一種納米二氧化硅磨料拋光液的制備方法無效
| 申請號: | 200710022356.5 | 申請日: | 2007-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN101307211A | 公開(公告)日: | 2008-11-19 |
| 發明(設計)人: | 仲躋和 | 申請(專利權)人: | 仲躋和 |
| 主分類號: | C09G1/02 | 分類號: | C09G1/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 226600江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 納米 二氧化硅 磨料 拋光 制備 方法 | ||
1、一種納米二氧化硅磨料拋光液的制備方法,其特征在于:先將磨料II均勻溶解于去離子水中,然后在千級凈化室的環境內,在真空負壓的動力下,通過質量流量計將溶解的磨料II液體輸入容器罐中,與容器罐內的所需重量的磨料I進行混合并充分攪拌,混合均勻后將拋光液的其余組分加入容器罐內再繼續充分攪拌,混合均勻即制備成成品拋光液;所述各種組分所占的重量百分比為:磨料I為10%~40%,磨料II為5%~20%,表面活性劑為0.01%~0.6%,PH調節劑為1%~6%,去離子水為余量。
2、根據權利要求1所述納米二氧化硅磨料拋光液的制備方法,其特征在于:所述千級凈化室的環境溫度為常溫;真空壓力為-105~0MPa。
3、根據權利要求1所述納米二氧化硅磨料拋光液的制備方法,其特征在于:所述磨料I的粒徑為10~80nm;所述磨料II的粒徑為50~150nm。
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