[發(fā)明專(zhuān)利]一種新型真空表面強(qiáng)化技術(shù)和設(shè)備無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710012930.9 | 申請(qǐng)日: | 2007-09-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101122004A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-02-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王亮;李楊;孫俊才;吳雪敏 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 大連海事大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C8/36 | 分類(lèi)號(hào): | C23C8/36 |
| 代理公司: | 大連八方知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 衛(wèi)茂才 |
| 地址: | 116026遼*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 新型 真空 表面 強(qiáng)化 技術(shù) 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及等離子體表面改性的技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種在真空條件下對(duì)工件表面進(jìn)行離子滲氮處理的技術(shù)和設(shè)備。
背景技術(shù)
離子滲氮是將工件置于輝光放電裝置的真空容器中,以工件為陰極,容器壁或另設(shè)金屬板作為陽(yáng)極,充一稀薄的含氮?dú)怏w,在直流高壓電場(chǎng)的作用下,使氣體原子電離成離子,離子以比較高的速度撞擊陰極工件,工件表面上的氮離子失去能量被工件吸收,并向內(nèi)部擴(kuò)散形成滲氮層的過(guò)程。
離子滲氮不僅能實(shí)現(xiàn)可控氮化、可局部硬化、使用純氫、氮?dú)鉃闅庠礋o(wú)環(huán)境污染等優(yōu)點(diǎn),并且離子滲氮不生成脆性相,滲層致密,與氣體滲氮相比有更高的耐磨性、耐蝕性和抗疲勞性能。但是,離子滲氮也存在以下缺點(diǎn):1)溫度不均勻性:現(xiàn)有的離子滲氮加熱很難保證溫度的均勻性,當(dāng)?shù)入x子體加熱時(shí),工件的溫度不僅取決于等離子體的能量,也和表面積和體積有關(guān),在電壓、氣體成分等參數(shù)一定的條件下,表面積和體積比越大,離子轟擊輸入的能量越大,溫度升高很快,不同形狀的工件進(jìn)行受熱不均勻,造成工件性能下降;2)表面打弧:在工件表面的局部位置因清理不干凈而存在有機(jī)物質(zhì)時(shí),則會(huì)引起打弧,產(chǎn)生極高的溫度,使該部位的金屬材料熔化或?yàn)R射出來(lái),傷害工件表面;3)邊緣效應(yīng):由于加熱的不均勻性,造成邊緣部位與中心區(qū)域溫度不一,表面顏色不均勻,氮化層厚度不一致。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種新型真空表面強(qiáng)化技術(shù)和設(shè)備,具有滲氮速度快、工藝簡(jiǎn)單、保持工件表面原有光潔度、工件表面化合物層厚、致密度高、設(shè)備簡(jiǎn)單、成本低的優(yōu)點(diǎn)。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種新型真空表面強(qiáng)化設(shè)備,包括真空爐、進(jìn)氣系統(tǒng)12、抽真空系統(tǒng)13、供電系統(tǒng)14、測(cè)溫系統(tǒng)15、冷卻系統(tǒng)、載物臺(tái)6和絕緣體7,進(jìn)氣系統(tǒng)12通過(guò)進(jìn)氣口8接入真空爐內(nèi),抽真空系統(tǒng)13接入真空爐的爐體夾層空氣室內(nèi),供電系統(tǒng)14的陽(yáng)極通過(guò)陽(yáng)極接口5與真空爐爐體電連接,測(cè)溫系統(tǒng)15與待處理的工件1連接,冷卻系統(tǒng)與真空爐爐體連接;該強(qiáng)化設(shè)備還包括一個(gè)雙層圓筒,該雙層圓筒位于真空爐內(nèi),通過(guò)絕緣體7與真空爐爐體電絕緣,該雙層圓筒由小圓筒2和大圓筒3組成,小圓筒2位于大圓筒3內(nèi),小圓筒2與大圓筒3的間距為10mm,小圓筒上平均分布直徑為5mm~6mm的孔洞,相鄰兩孔洞的間距為30mm~40mm,載物臺(tái)6位于小圓筒2內(nèi),并通過(guò)絕緣體7與真空爐爐體電絕緣,供電系統(tǒng)14的陰極通過(guò)陰極接口4與大圓筒3電連接。
上述進(jìn)氣系統(tǒng)12主要由氣瓶和穩(wěn)壓閥組成,其作用是保證氨氣可以連續(xù)均衡地供應(yīng)給真空爐。
上述抽真空系統(tǒng)13主要由旋片式機(jī)械泵和電阻真空計(jì)組成,其作用是通過(guò)旋片式機(jī)械泵對(duì)真空爐爐體夾層空氣室進(jìn)行抽真空,使其成為真空隔熱層,并用電阻真空計(jì)對(duì)真空爐內(nèi)進(jìn)行氣壓測(cè)量。
上述供電系統(tǒng)14主要由變壓器和整流器組成,其主要用于調(diào)節(jié)施加給真空爐內(nèi)的電壓。
上述測(cè)溫系統(tǒng)15主要由鎧裝熱電偶、絕緣部分、屏蔽部分、間隙保護(hù)部分和防電場(chǎng)干擾部分組成,其可直接接觸不同形狀的工件帶電測(cè)溫,測(cè)溫誤差小,并且測(cè)量高度與位置均可調(diào)節(jié),接觸可靠,不產(chǎn)生放電現(xiàn)象,測(cè)溫系統(tǒng)15主要用于測(cè)量工件溫度,控制滲氮過(guò)程。
上述真空爐主要由放電罩、底板和密封圈組成,放電罩和底板由兩層鋼板組成,中間由冷卻系統(tǒng)通水冷卻,以保證真空爐不至于升溫變質(zhì)而失去密封作用。
上述冷卻系統(tǒng)主要由水泵、進(jìn)水口9、冷卻觀察窗10和出水口11組成,進(jìn)水口9、冷卻觀察窗10和出水口11置于放電罩和底板的兩層鋼板之間。
一種新型真空表面強(qiáng)化技術(shù),包括如下步驟:
用工業(yè)清洗劑清洗待處理工件1的表面,然后進(jìn)行裝爐,將工件1放置在載物臺(tái)6上;
啟動(dòng)抽真空系統(tǒng)13對(duì)真空爐爐體夾層空氣室進(jìn)行抽真空,同時(shí)啟動(dòng)冷卻系統(tǒng),當(dāng)真空爐內(nèi)真空度達(dá)到13.3Pa~133Pa時(shí),通過(guò)進(jìn)氣口8向真空爐內(nèi)充入凈化過(guò)的氨氣,氨氣經(jīng)過(guò)小圓筒2的孔洞均勻分布在整個(gè)真空爐內(nèi),使工件1周?chē)陌睔鉂舛染猓?/p>
調(diào)節(jié)氨氣的流量,使真空爐內(nèi)的壓強(qiáng)保持在133Pa~1333Pa,然后打開(kāi)供電系統(tǒng)14的電源,真空爐內(nèi)的氨氣在高壓電場(chǎng)的作用下發(fā)生電離,產(chǎn)生輝光放電效應(yīng);
根據(jù)氮化工藝參數(shù)的不同,可向真空爐內(nèi)連續(xù)通入適量氨氣使?fàn)t內(nèi)氣壓達(dá)到50Pa~3000Pa的真空度,并通過(guò)供電系統(tǒng)14逐步調(diào)節(jié)電壓、電流,控制氮化溫度,通過(guò)流量計(jì)調(diào)節(jié)爐內(nèi)氣壓,使雙層圓筒保持空心陰極放電效應(yīng);
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C8-00 金屬材料表面中僅滲入非金屬元素的固滲
C23C8-02 .被覆材料的預(yù)處理
C23C8-04 .局部表面的處理,例如使用掩蔽物的
C23C8-06 .使用氣體的
C23C8-40 .使用液體,例如鹽浴、懸浮液的
C23C8-60 .使用固體,例如粉末、膏劑的





