[發(fā)明專利]一種藍(lán)綠可見波段的可調(diào)諧激光晶體材料摻鎳四氯鋅化鉀無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710009440.3 | 申請(qǐng)日: | 2007-08-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101377011A | 公開(公告)日: | 2009-03-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 涂朝陽;李堅(jiān)富;游振宇;羊富貴;朱昭捷;王燕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所 |
| 主分類號(hào): | C30B29/12 | 分類號(hào): | C30B29/12;C30B1/10;C30B15/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 350002福*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 藍(lán)綠 可見 波段 調(diào)諧 激光 晶體 材料 摻鎳四氯鋅化鉀 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及激光晶體材料領(lǐng)域。
背景技術(shù)
探索和發(fā)展可見光波段的可調(diào)諧激光晶體和激光器是目前受人們關(guān)注的研究課題之一。目前,全固態(tài)的藍(lán)綠色波段激光光源在工農(nóng)業(yè)、軍事和國(guó)民經(jīng)濟(jì)建設(shè)上都有著廣泛的應(yīng)用。在國(guó)防上,可研制出基于新的物理機(jī)理的水下目標(biāo)探測(cè)、控制、通信等新型裝備,廣泛地應(yīng)用于海軍的武器裝備上,在民用上,在高密度光存儲(chǔ)、數(shù)字視頻技術(shù)、彩色激光顯示、海洋水色和海洋資源探測(cè)和激光制冷等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景。
K2ZnCl4屬于正交晶系,空間群為Pna21,晶胞參數(shù)為:a=2.725nm,b=1.257nm,c=0.7239nm,Z=12,它的透過波段為0.3~16μm,最大聲子能量<200cm-1,是一種良好的上轉(zhuǎn)換激光基質(zhì)材料。Ni2+激活的激光晶體可以產(chǎn)生近紅外和可見光波段的可調(diào)諧激光,例如Ni:MgF2晶體已經(jīng)成功地實(shí)現(xiàn)了近紅外波段的可調(diào)諧激光輸出。目前還未見有K2ZnCl4:Ni2+晶體的相關(guān)研究報(bào)道。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于公開一種能夠?qū)崿F(xiàn)400nm~520nm藍(lán)綠可見波段的可調(diào)諧上轉(zhuǎn)換激光輸出的激光晶體材料K2ZnCl4:Ni2+。
實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的技術(shù)方案:
1.一種藍(lán)綠可見波段的可調(diào)諧激光晶體材料摻鎳四氯鋅化鉀,該晶體材料的化學(xué)式為K2ZnCl4:Ni2+。
2.一種項(xiàng)1的激光晶體材料的制備方法,采用KCl、NiCl2·H2O和ZnCl2·H2O作為原料,加熱去水,然后通過高溫固相反應(yīng)獲得K2ZnCl4:Ni2+原料,采用提拉法生長(zhǎng)晶體。
3.一種項(xiàng)1的激光晶體材料的用途,該材料用于實(shí)現(xiàn)400nm~520nm藍(lán)綠可見波段的可調(diào)諧上轉(zhuǎn)換激光輸出。
K2ZnCl4:Ni2+晶體在400nm~520nm波段有一個(gè)較強(qiáng)的寬帶上轉(zhuǎn)換熒光發(fā)射峰(如圖1所示),其峰值波長(zhǎng)為450nm,有望實(shí)現(xiàn)400nm~520nm藍(lán)綠可見波段的可調(diào)諧上轉(zhuǎn)換激光輸出,而且它在600nm~800nm波段有一個(gè)較強(qiáng)的寬帶吸收峰(如圖2所示),其峰值波長(zhǎng)為653nm,可適用于商用的LD激光光源的抽運(yùn)。
附圖說明
圖1K2ZnCl4:Ni2+晶體的室溫?zé)晒庾V圖;圖2為K2ZnCl4:Ni2+晶體的室溫吸收光譜圖;圖3為激光實(shí)驗(yàn)裝置。
具體實(shí)施方式:
實(shí)施例一:K2ZnCl4:Ni2+晶體的生長(zhǎng)制備
先對(duì)原料KCl、NiCl2·H2O和ZnCl2·H2O進(jìn)行處理:分別將適量分析純的KCl、NiCl2·H2O和ZnCl2·H2O原料放入燒結(jié)爐中,加熱到300℃去水,然后將溫度降下來,把原料存放于干燥箱中備用。然后按照下面的化學(xué)反應(yīng)式中的比例稱料,在干燥操作箱中研磨混合均勻,壓片后裝入剛玉坩堝,放置于高溫?zé)Y(jié)爐,通過高溫固相反應(yīng)獲得K2ZnCl4:Ni2+原料。
x=0.05at%~1at%。把原料研磨、混合均勻,壓片,裝入Φ55mm×30mm的剛玉坩堝中,置放于提拉爐中,升溫至原料完全熔化,然后采用鉑金絲引晶,降溫生長(zhǎng)晶體,籽晶桿的旋轉(zhuǎn)速率為8~12rpm,提拉速率為0.8~1.2mm/h,晶體生長(zhǎng)結(jié)束后,以10℃/h~30℃/h的速率緩慢退火至室溫,可得尺寸為Φ45mm×25mm的優(yōu)質(zhì)K2ZnCl4:Ni2+晶體。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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