[發明專利]具有高熔相的濺射靶無效
| 申請號： | 200710008320.1 | 申請日： | 2007-01-17 |
| 公開（公告）號： | CN101008076A | 公開（公告）日： | 2007-08-01 |
| 發明（設計）人： | M·施洛特;M·舒爾特海斯 | 申請（專利權）人： | W.C.賀利氏有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C23C14/14 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 高熔相 濺射 | ||
【說明書】：
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