[發(fā)明專利]用于制造線柵偏振器的系統(tǒng)和方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710008117.4
• 申請日: 2007-01-26
• 公開（公告）號: CN101126894A
• 公開（公告）日: 2008-02-20
• 發(fā)明（設計）人: 秋大鎬
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G02B5/30
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 張波

1.一種用于制造線柵偏振器的系統(tǒng)，包括：

用于在基板上形成薄金屬膜層的沉積單元；

用于在所述薄金屬膜層上涂覆光致抗蝕劑并用于烘焙所述光致抗蝕劑的涂覆單元；

模壓單元，包括其上形成了圖案的印模，用于把所述印模壓到所述基板的所述光致抗蝕劑上并由此把所述印模的圖案轉(zhuǎn)移到所述光致抗蝕劑上；以及

用于固化所述光致抗蝕劑的固化單元。

2.如權利要求1的系統(tǒng)，還包括：

用于蝕刻所述薄金屬膜層的蝕刻單元；以及

用于除去所述光致抗蝕劑的灰化單元。

3.如權利要求2的系統(tǒng)，還包括：

用于把所述基板裝載進所述系統(tǒng)內(nèi)的裝載單元；

用于清潔所述基板的清潔單元；

用于從所述系統(tǒng)中卸載所述基板的卸載單元；以及

用于在所述系統(tǒng)內(nèi)運載所述基板的多個運載單元。

4.如權利要求3的系統(tǒng)，其中按下列順序彼此串列式地排列所述單元：所述裝載單元、所述清潔單元、所述沉積單元、所述涂覆單元、所述模壓單元、所述固化單元、所述蝕刻單元、所述灰化單元和所述卸載單元，并且其中各個所述運載單元被設置在其它單元的相鄰對之間。

5.如權利要求1的系統(tǒng)，其中所述模壓單元還包括：

模壓室；

設置在所述模壓室中并被構造來支承所述基板的第一基板支承單元；以及

用于施加壓力給所述印模從而把所述印模壓到所述基板上的所述光致抗蝕劑上的按壓單元。

6.如權利要求5的系統(tǒng)，其中所述印模包括：

基體板；

以交替的方式排列并嵌入在所述基體板的第一表面中的具有相反極性。的第一和第二磁體；以及

靜電地附著到所述基體板的所述第一表面的多個單位印模。

7.如權利要求6的系統(tǒng)，其中每個單位印模包括：

具有相反的第一和第二表面的單位印模基板；以及

在所述單位印模基板的所述第一表面上沿一個方向延伸的精細圖案。

8.如權利要求7的系統(tǒng)，其中所述單位印模還包括在所述單位印模基板的所述第二表面上的金屬導電層。

9.如權利要求7的系統(tǒng)，其中該單位印模基板包括硅晶片或石英晶片。

10.如權利要求5的系統(tǒng)，其中所述按壓單元包括：

按壓室；以及

用于把氣體注入到所述壓室并對所述壓室的內(nèi)部施加氣體壓力的氣體壓力施加單元。

11.如權利要求10的系統(tǒng)，其中所述按壓單元還包括用于保持施加到所述按壓室的內(nèi)部的所述氣體壓力的一致性的氣體壓力修正單元。

12.如權利要求11的系統(tǒng)，其中所述氣體施加單元包括：

氣體供給源，設置在所述按壓室外部并配置來供應用于注入到所述按壓室的氣體；以及

在所述按壓室的壁中形成的氣體注入孔。

13.如權利要求11的系統(tǒng)，其中所述氣體壓力修正單元包括設置在所述按壓室內(nèi)部的多個彈簧部件。

14.如權利要求5的系統(tǒng)，還包括印模儲存室，用于儲存等待的印模。

15.如權利要求1或5的系統(tǒng)，其中所述固化單元包括：

固化室；

設置在所述固化室內(nèi)并構造來支承所述基板的第二基板支承單元；以及

用于固化所述光致抗蝕劑的固化源單元。

16.如權利要求15的系統(tǒng)，其中所述光致抗蝕劑由UV可固化光致抗蝕劑或熱固性光致抗蝕劑構成。

17.如權利要求16的系統(tǒng)，其中所述固化源單元包括UV光源或加熱器。

18.如權利要求15的系統(tǒng)，其中所述光致抗蝕劑由混合光致抗蝕劑構成，該混合光致抗蝕劑由UV可固化光致抗蝕劑和熱固性光致抗蝕劑的混合物構成。

19.如權利要求18的系統(tǒng)，其中：

所述模壓單元還包括用于固化所述混合光致抗蝕劑的所述UV可固化光致抗蝕劑的UV光源；以及

所述固化單元的所述固化源單元包括用于固化所述混合光致抗蝕劑的所述熱固性光致抗蝕劑的加熱器。