[發(fā)明專利]光盤裝置及其信息記錄方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710007100.7 | 申請日: | 2007-02-09 |
| 公開(公告)號: | CN101079278A | 公開(公告)日: | 2007-11-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 織田祐喜人;中田慎一 | 申請(專利權(quán))人: | 日立樂金資料儲存股份有限公司 |
| 主分類號: | G11B7/09 | 分類號: | G11B7/09;G11B7/007;G11B7/0037;G11B7/0045;G11B7/125 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光盤 裝置 及其 信息 記錄 方法 | ||
1.一種通過物鏡對光盤照射激光,進(jìn)行信息的記錄或再現(xiàn)的光盤裝置,其特征在于,具有:
受光模塊,檢測來自光盤面的激光的反射光量;
控制部,進(jìn)行第一學(xué)習(xí)與第二學(xué)習(xí),第一學(xué)習(xí)是在記錄之前,基于所述受光模塊的輸出,為了所述光盤的多個盤半徑位置各自的物鏡的聚焦控制而進(jìn)行聚焦學(xué)習(xí),基于該學(xué)習(xí)的結(jié)果計算該各盤半徑位置的盤面抖動量,基于該求出的盤面抖動量信息設(shè)定用于在記錄時進(jìn)行聚焦學(xué)習(xí)的盤半徑位置,第二學(xué)習(xí)是在記錄時,基于所述第一學(xué)習(xí)的聚焦學(xué)習(xí)結(jié)果而計算該設(shè)定的盤半徑位置上的聚焦驅(qū)動量,基于該計算出的聚焦驅(qū)動量而進(jìn)行當(dāng)前的盤半徑位置的聚焦學(xué)習(xí),
該光盤裝置構(gòu)成為在記錄時,基于所述第二學(xué)習(xí)的結(jié)果驅(qū)動所述物鏡,進(jìn)行聚焦控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置,其特征在于:
所述控制部具有在所述第一學(xué)習(xí)中,對所述光盤的內(nèi)周部與外周部進(jìn)行所述盤面抖動量的計算的結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置,其特征在于:
所述控制部具有以下結(jié)構(gòu),作為所述第一、第二學(xué)習(xí)中的所述聚焦學(xué)習(xí),改變驅(qū)動所述物鏡的促動器的驅(qū)動電壓,改變該物鏡距離光盤面的高度位置,求出對于各高度位置時的該驅(qū)動電壓的所述受光模塊的輸出,求出該輸出為最大電平時所述驅(qū)動電壓的電平和變化量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置,其特征在于:
所述控制部具有以下結(jié)構(gòu),在所述第一學(xué)習(xí)中,控制用于進(jìn)行所述聚焦學(xué)習(xí)的盤半徑位置的間隔或數(shù)量。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光盤裝置,其特征在于:
所述控制部具有以下結(jié)構(gòu),在所述第一學(xué)習(xí)中,在所述盤面抖動量大時,與盤面抖動量小時相比,將進(jìn)行所述聚焦學(xué)習(xí)的盤半徑位置的間隔設(shè)定得狹窄。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置,其特征在于:
所述控制部具有以下結(jié)構(gòu),在所述第二學(xué)習(xí)中,在所述盤面抖動量大到超過預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn)值時,將進(jìn)行所述聚焦學(xué)習(xí)的盤半徑位置的間隔設(shè)定為比所述第一學(xué)習(xí)中設(shè)定的間隔狹窄。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置,其特征在于:
所述控制部具有以下結(jié)構(gòu),在所述第一學(xué)習(xí)中,基于所述受光模塊輸出的所有加法信號的最大電平求出所述盤面抖動量。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置,其特征在于:
所述控制部具有以下結(jié)構(gòu),在所述第二學(xué)習(xí)中聚焦學(xué)習(xí)失敗的情況下,利用所述第一學(xué)習(xí)的聚焦學(xué)習(xí)結(jié)果,求出當(dāng)前的聚焦學(xué)習(xí)位置的學(xué)習(xí)保護(hù)值,進(jìn)行記錄。
9.一種對光盤照射激光,進(jìn)行信息的記錄的光盤裝置的信息記錄方法,其特征在于,包括:
第一步驟,檢測來自光盤面的激光的反射光量;
第二步驟,基于所述檢測結(jié)果,進(jìn)行所述光盤的多個盤半徑位置各自的聚焦學(xué)習(xí),基于該學(xué)習(xí)結(jié)果計算各盤半徑位置的盤面抖動量;
第三步驟,基于該計算出的盤面抖動量,設(shè)定用于在記錄時進(jìn)行聚焦學(xué)習(xí)的盤半徑位置;
第四步驟,在信息記錄開始、物鏡的激光光點在所述設(shè)定的盤半徑位置時,基于所述第二步驟中求得的盤面抖動量計算該盤半徑位置的盤面抖動量,從該計算結(jié)果求出該盤半徑位置上的聚焦驅(qū)動量;
第五步驟,進(jìn)行已求得所述聚焦驅(qū)動量的盤半徑位置中的聚焦學(xué)習(xí);
第六步驟,基于所述第五步驟的聚焦學(xué)習(xí)結(jié)果或所述第二步驟的聚焦學(xué)習(xí)結(jié)果進(jìn)行聚焦控制;以及
第七步驟,在所述聚焦控制的狀態(tài)下,在所述盤半徑位置以后的區(qū)域進(jìn)行信息記錄,
由此對光盤進(jìn)行信息記錄。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的信息記錄方法,其特征在于:
在所述第五步驟中,將當(dāng)前的盤半徑位置的聚焦學(xué)習(xí)的結(jié)果與前面的盤半徑位置的聚焦學(xué)習(xí)的結(jié)果進(jìn)行比較,在該比較的結(jié)果為盤面抖動量之差大、超過基準(zhǔn)值的情況下,使進(jìn)行聚焦學(xué)習(xí)的盤半徑位置的間隔比所述第三步驟中設(shè)定的盤半徑位置的間隔狹窄。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的信息記錄方法,其特征在于:
在所述第六步驟中,在所述第五步驟中不能進(jìn)行所述聚焦學(xué)習(xí)的情況下利用所述第二步驟的聚焦學(xué)習(xí)結(jié)果進(jìn)行聚焦控制。
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