[發明專利]半導體封裝體用外罩玻璃及其制造方法有效
| 申請號: | 200710006305.3 | 申請日: | 2004-02-16 |
| 公開(公告)號: | CN101071817A | 公開(公告)日: | 2007-11-14 |
| 發明(設計)人: | 伊藤伸敏;淀川正弘;三和晉吉;橋本幸市;二上勉 | 申請(專利權)人: | 日本電氣硝子株式會社 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146;H01L23/04;H01L31/0203;H01L33/00;H01L21/48;H01S5/022;C03B15/00;C03B18/00;C03C3/093 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 劉建 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 封裝 體用 外罩 玻璃 及其 制造 方法 | ||
1.一種固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,透光面為非研磨面,其表面粗糙度Ra在1.0nm以下,并且該玻璃以質量%表示,含有SiO2:58~75%、Al2O3:0.5~15%、B2O3:5~20%、堿金屬氧化物:1~20%、堿土類金屬氧化物:0~20%以及ZnO:0~10%的基本組成,
并且所述堿金屬氧化物中的Li2O含量相對于固體攝像器件封裝體用外罩玻璃為0~3%,所述堿土類金屬氧化物中的BaO含量相對于固體攝像器件封裝體用外罩玻璃為0~3%。
2.根據權利要求1所述的固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,由下拉法或浮動法成形。
3.根據權利要求2所述的固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,下拉法為溢出下拉法。
4.根據權利要求1所述的固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,液相溫度下的玻璃粘度在105.2dPa·s以上。
5.根據權利要求1所述的固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,30~380℃的溫度范圍中的平均熱膨脹系數為30~85×10-7/℃。
6.根據權利要求1所述的固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,α射線放射量在0.01c/cm2·hr以下。
7.根據權利要求1所述的固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,堿溶出量在1.0mg以下。
8.根據權利要求1所述的固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,壁厚為0.05~0.7mm。
9.根據權利要求1所述的固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,密度在2.55g/cm3以下。
10.一種固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,由下拉法或浮動法形成,透光面的表面粗糙度Ra在1.0nm以下,并且該外罩玻璃以質量%表示,含有SiO2:58~75%、Al2O3:0.5~15%、B2O3:5~20%、堿金屬氧化物:1~20%、堿土類金屬氧化物:0~20%以及ZnO:0~10%的基本組成,30~380℃的溫度范圍中的平均熱膨脹系數為30~85×10-7/℃,液相溫度下的玻璃粘度在105.2dPa·s以上,
并且所述堿金屬氧化物中的Li2O含量相對于固體攝像器件封裝體用外罩玻璃為0~3%,所述堿土類金屬氧化物中的BaO含量相對于固體攝像器件封裝體用外罩玻璃為0~3%。
11.根據權利要求10所述的固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,α射線放射量在0.01c/cm2·hr以下。
12.根據權利要求10或11所述的固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,玻璃中的U含量在10ppb以下,Th含量在20ppb以下。
13.根據權利要求10所述的固體攝像器件封裝體用外罩玻璃,其特征是,As2O3的含量小于2000ppm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





