[發(fā)明專利]讀寫頭位置控制方法、讀寫頭位置控制裝置和盤裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710004397.1 | 申請日： | 2007-01-25 |
| 公開（公告）號： | CN101118774A | 公開（公告）日： | 2008-02-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 高石和彥 | 申請（專利權(quán)）人： | 富士通株式會社 |
| 主分類號： | G11B21/08 | 分類號： | G11B21/08;G11B21/10;G11B7/085 |
| 代理公司： | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 李輝;呂俊剛 |
| 地址： | 日本神奈*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 讀寫 位置 控制 方法 裝置 | ||
1.一種用于通過致動器將讀寫頭的位置控制在盤存儲介質(zhì)的預(yù)定位置處的讀寫頭位置控制方法，該方法包括以下步驟：
根據(jù)所述讀寫頭的目標(biāo)位置和從所述讀寫頭獲取的當(dāng)前位置來計算位置誤差；
計算所述位置誤差與觀測器的估計位置之間的估計位置誤差；
根據(jù)所述估計位置誤差利用所述觀測器的估計增益來產(chǎn)生狀態(tài)信息，并且根據(jù)該狀態(tài)信息計算所述致動器的控制值；以及
通過從表獲得與所述讀寫頭的目標(biāo)位置相對應(yīng)的估計增益并且將所述估計增益設(shè)置在所述觀測器中來改變干擾抑制頻率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的讀寫頭位置控制方法，其中，所述改變步驟包括以下步驟：改變NRRO(非重復(fù)性偏離)干擾的抑制頻率特性。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的讀寫頭位置控制方法，其中，所述改變步驟包括以下步驟：從表獲得與所述讀寫頭在所述盤上沿徑向的位置相對應(yīng)的估計增益，并改變所述觀測器的風(fēng)擾動的抑制頻率特性。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的讀寫頭位置控制方法，其中，所述改變步驟包括以下步驟：獲取與讀寫頭號相對應(yīng)的估計增益，并改變所述觀測器的抑制頻率的峰值，該讀寫頭號表示與所述讀寫頭相對應(yīng)的盤面的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的讀寫頭位置控制方法，其中，計算所述控制值的所述步驟包括以下步驟：
利用控制器的估計增益以及干擾模型的估計增益來產(chǎn)生狀態(tài)信息，該干擾模型由傳遞函數(shù)來定義，該傳遞函數(shù)的分母為用于對靈敏度函數(shù)進(jìn)行整形的濾波器的分子，該濾波器的分母的階數(shù)與分子的階數(shù)相同，以及
根據(jù)所述狀態(tài)信息計算包括所述致動器的干擾抑制值在內(nèi)的控制值。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的讀寫頭位置控制方法，其中，計算所述控制值的所述步驟包括以下步驟：
根據(jù)所述估計位置誤差利用所述控制器的估計增益來產(chǎn)生狀態(tài)信息，并根據(jù)該狀態(tài)信息計算所述致動器的控制值；
根據(jù)所述估計位置誤差利用干擾模型的估計增益來產(chǎn)生狀態(tài)信息，并根據(jù)該狀態(tài)信息計算所述致動器的干擾抑制值，該干擾模型由傳遞函數(shù)來定義，該傳遞函數(shù)的分母為用于對靈敏度函數(shù)進(jìn)行整形的濾波器的分子，該濾波器的分母的階數(shù)與分子的階數(shù)相同；以及
將所述控制值和所述干擾抑制值相加，以計算所述致動器的驅(qū)動值。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的讀寫頭位置控制方法，其中，計算所述干擾抑制值的所述步驟包括以下步驟：
利用干擾模型的估計增益來產(chǎn)生狀態(tài)信息，該干擾模型具有用于根據(jù)期望干擾頻率對靈敏度函數(shù)進(jìn)行整形的濾波器的分子的零點(diǎn)作為極點(diǎn)；以及
根據(jù)所述狀態(tài)信息計算所述致動器的干擾抑制值。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的讀寫頭位置控制方法，其中，計算所述干擾抑制值的所述步驟包括以下步驟：
利用干擾模型的估計增益來產(chǎn)生狀態(tài)信息，該干擾模型的分母為用于根據(jù)期望干擾頻率對靈敏度函數(shù)進(jìn)行整形的一階或二階濾波器的分子；以及
根據(jù)所述狀態(tài)信息計算所述致動器的干擾抑制值。
9.一種盤裝置，該盤裝置包括：
讀寫頭，用于至少讀取盤存儲介質(zhì)上的數(shù)據(jù)；
致動器，用于將所述讀寫頭定位在所述盤存儲介質(zhì)上的預(yù)定位置；
控制單元，用于根據(jù)所述讀寫頭的目標(biāo)位置和從所述讀寫頭獲取的當(dāng)前位置來計算位置誤差，計算所述位置誤差和觀測器的估計位置之間的估計位置誤差，根據(jù)所述估計位置誤差利用所述觀測器的估計增益產(chǎn)生狀態(tài)信息，并根據(jù)該狀態(tài)信息計算所述致動器的控制值；以及
用于存儲與所述讀寫頭的目標(biāo)位置相對應(yīng)的估計增益的表，
其中，所述控制單元從所述表獲得與所述目標(biāo)位置相對應(yīng)的所述估計增益，將所述估計增益設(shè)置在所述觀測器中，并改變干擾抑制頻率。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的盤裝置，其中，所述控制單元改變所述觀測器的NRRO(非重復(fù)性偏離)干擾的抑制頻率特性。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的盤裝置，其中，所述控制單元從所述表獲得與所述讀寫頭在所述盤上沿徑向的位置相對應(yīng)的估計增益，并改變所述觀測器的風(fēng)擾動的抑制頻率特性。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于富士通株式會社，未經(jīng)富士通株式會社許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710004397.1/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
