[發明專利]金屬間化合物各向異性磁粉,制備方法及專用設備有效
| 申請號: | 200710003436.6 | 申請日: | 2007-02-07 |
| 公開(公告)號: | CN101240398A | 公開(公告)日: | 2008-08-13 |
| 發明(設計)人: | 羅陽;羅惇 | 申請(專利權)人: | 羅陽;羅惇 |
| 主分類號: | C22C38/00 | 分類號: | C22C38/00;H01F1/055;C22C38/12;C22C33/02;B22F1/00;B22F9/00;C23C8/08 |
| 代理公司: | 北京市浩天知識產權代理事務所 | 代理人: | 白云義 |
| 地址: | 100081北京市海淀區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 金屬 化合物 各向異性 制備 方法 專用設備 | ||
1.?一種具有磁性的單相稀土金屬間化合物合金,按原子百分比(at.%)計算,其化學式為:R12.5-X1-X2SMX2TC81.3-Y1-Y2TMY2B6.2-Z,其中:R為稀土元素,Nd是必選元素,其余可從稀土元素Pr、Ce、Tb和Dy中任選一種或多種,Nd含量應占稀土元素總量的80~100%;SM為半導體元素,可從Si、Ga、Ge中任選一種或幾種;TC是鐵磁性元素,可選自Fe或Co中的一種或兩種,Fe含量占鐵磁性元素的87-100%;TM是過渡金屬元素,選自Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、V、Cr、Mo和W中的一種或多種,
X1的取值范圍是:-0.7≤X1≤0.7;
X2的取值范圍是:0.05≤X2≤1;
Y1的取值范圍是:-2≤Y1≤2;
Y2的取值范圍是:0.05≤Y2≤0.5;
Z的取值范圍是;-0.3≤Z≤0.3。
2.?根據權利要求1所述的具有磁性的單相稀土金屬間化合物合金,其中的半導體元素為Ga。
3.?根據權利要求1所述的具有磁性的單相稀土金屬間化合物合金,其中的過渡金屬元素為Nb。
4.?根據權利要求1~3任意一項所述的具有磁性的單相稀土金屬間化合物合金,該合金的最大磁能積BHMAX=16~43?MGOe。
5.?制備權利要求1~4任意一項所述的合金進行的氫化處理方法,其包括步驟:
I、吸氫反應:往氫處理爐內充入氫氣,壓力為100kPa,爐內合金錠因吸氫而自然升溫,溫度可達300℃,此過程持續約1小時,然后加熱反應爐;
II、歧化反應:首先將氫氣壓力調至最佳氣壓范圍,最佳氫氣壓視合金成分而定,它在18~90kPa之間;隨后加熱爐溫,使達800~840℃,在此氫壓和溫度下,歧化持續3小時即完成;
III、脫吸與再結合:溫度繼續保持800~840℃,將反應罐內氫壓驟降至1~3kPa,此過程持續約30分鐘,優選為20分鐘;
IV、脫氫:打開真空泵,將氫壓降至100Pa以下,同時停爐降溫,持續抽真空,最終氫壓降至10-2Pa,此脫氫過程持續3小時。
6.?根據權利要求5所述的氫化處理方法,其中歧化、脫吸反應階段的爐溫均保持在820℃。
7.?根據權利要求5所述的氫化處理方法,其中脫氫階段,可同時充入Ar,再抽真空。
8.?根據權利要求5所述的氫化處理方法,其中脫氫階段,當溫度降至50℃時可再次升溫至800~840℃,然后再降至室溫。
9.?制備權利要求1~4任意一項所述磁粉的專用氫化處理設備,其包括:
反應罐(26)和氫氣壓調節裝置(22),其中反應罐包括兩個頂蓋(2、5),若干無縫不銹鋼管(4)和端蓋(3、3),端蓋(3、3)與頂蓋(2、5)密封連接;
端蓋(3、3)與鋼管焊成一體,兩個端蓋(3、3)分別開有若干孔,配合鋼管(4)套入并密封焊接;
頂蓋(5)上設置有:氫氣進氣閥門(18),用于控制和微調氫氣的流入量;氫氣壓力表(6),用以顯示反應罐內的氫氣壓力;溫度顯示器(21),用以精確顯示鋼管內部的溫度;以及與氫氣壓調節裝置(22)相連通的接口(23);
加熱組件(24),位于鋼管(4)內底部,用以均勻加熱鋼管(4);
閥門(1)位于漏斗型頂蓋(2)出口處,用以控制出料。
10.?根據權利要求9所述的氫化處理設備,其中,無縫不銹鋼鋼管(4)為4根。
11.?根據權利要求9所述的氫化處理設備,端蓋(3、3)設有固定密封圈的槽溝,以保證工作時端蓋(3、3)和頂蓋(2、5)之間的密封連接。
12.?根據權利要求9~11任意一項所述的氫化處理設備,其中,反應罐還包括一外部加熱冷卻裝置,其包括一方形槽(20),其位于兩端蓋(3、3)內側,方形槽(20)上部開口,在鋼管(4)與方形槽(20)之間保留有一定空間,用以插入加熱裝置(25)或加入冷卻液,方形槽(20)底部設有一放水閥門(19)。
13.?根據權利要求9~11任意一項所述的氫化處理設備,其中,外部加熱冷卻裝置為纏繞在鋼管(4)并與之絕緣的電阻絲。
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