[發(fā)明專利]高壓固相晶化法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710002562.X | 申請日: | 2007-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN101235534A | 公開(公告)日: | 2008-08-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李沅民;馬昕 | 申請(專利權(quán))人: | 北京行者多媒體科技有限公司 |
| 主分類號: | C30B1/12 | 分類號: | C30B1/12;C30B28/02;C30B29/06;H01L31/18 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100086北京市海淀區(qū)中關(guān)村南大街*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高壓 固相晶化法 | ||
1.?一個多晶硅薄膜,該薄膜厚度不超過5微米,平行于基板的粒徑不小于10微米,其特征在于:它的形成過程是,將低溫下在等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)中生長的氫化非晶硅薄膜置入一個密封的箱體,在箱體中引入含有氫氣的壓力不低于200個大氣壓的氣體,并維持在不低于600℃的溫度下,持續(xù)2-20小時。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶硅薄膜,其特征在于:它是被摻雜的p型或n型半導(dǎo)體材料。
3.?根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的多晶硅薄膜,其特征在于:它構(gòu)成了一個光伏器件的一部分。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京行者多媒體科技有限公司,未經(jīng)北京行者多媒體科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710002562.X/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





