[發明專利]焦距偏離檢測裝置及利用該裝置的光盤裝置

無效

• 申請號: 200710001909.9
• 申請日: 2007-01-12
• 公開（公告）號: CN101079277A
• 公開（公告）日: 2007-11-28
• 發明（設計）人: 石川義典
• 申請（專利權）人: 株式會社日立制作所;日立樂金資料儲存股份有限公司
• 主分類號: G11B7/09
• 分類號: G11B7/09;G11B7/085
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司
• 代理人: 龍淳

技術領域

本發明是涉及焦距偏離檢測裝置及利用該裝置的光盤裝置。

背景技術

作為本發明的背景技術，例如有日本專利公開平8-185637號公報。在該公報中，記載了“通過對焦距誤差信號與規定電位的基準信號進行電平比較，檢測從記錄中或再現中的記錄層到其它記錄層的焦距吻合的焦距偏離”。

另外，作為本發明的背景技術，例如有日本專利公開平8-203108號公報。在該公報中，記載了“在發生了焦距偏離的情況下，最初發生比較大的焦距誤差信號，其后注目面積平均反射光量的下降，在焦距伺服中，檢測到散焦狀態后，檢測到在規定時間內面積平均反射光量變成不足第2基準值時，驅動聚焦驅動器，以使物鏡遠離盤面”。

發明內容

近年來，具有多個記錄層的記錄型光盤在實用化。由于在對于所述記錄型光盤進行再現或記錄過程當中，如果有來自外部的振動等外來干擾因素而引起焦距伺服偏離時，就不能進行數據的再現或記錄，所以在光盤裝置在檢測出焦距偏離時，暫時中斷數據的再現或記錄，之后再次使焦距伺服與跟蹤伺服系統為ON狀態，從再現或記錄中斷的位置繼續進行數據的再現或記錄。

作為焦距偏離的檢測方法，例如專利文獻1中給出了將焦距誤差信號(以下稱為FE信號)與規定的閾值進行比較的方法。該專利文獻1所公開的焦距偏離的檢測方法，是使用正負的閾值檢測在焦距偏離時對于FE信號中所表現的基準電位進行正負變動的波形的方法。

然而，在光盤的制造工序中要求記錄面要高精度、平坦地制作，但在有些情況下，在完成的光盤的一部分的記錄面上會局部存在非意識的微小變形。

由該記錄面變形的形狀而產生焦距偏離時，有在FE信號中發生同樣的波形的情況。因此，在使用專利文獻1所示的方法的情況下，由于將由記錄面的微小變形所引起的FE信號的變動作為焦距偏離而誤檢測，發生不需要的記錄停止或再現停止，所以會發生數據的記錄時間或再現時間增加的問題。

而且，作為迅速檢測出焦距偏離的發生，而使物鏡從盤離開的方法，例如專利文獻2給出了在FE信號超出了規定值，而在規定時間內使面積平均反射光量不足基準值時，強制地使物鏡離開的方法。在該專利文獻2給出的焦距偏離檢測方法中，在盤記錄面的微小變形附近存在有損傷的情況下由這些位置關系的微小變形引起FE信號的大的變動，由損傷可能使面積平均反射光量下降到基準值以下。在這樣的情況下，由于檢測出焦距偏離而發生不需要的記錄停止或再現停止，所以會發生數據的記錄時間或再現時間增加的問題。

本發明的目的在于提供高性能的焦距偏離檢測裝置及利用該裝置的光盤裝置。

本發明的目的，作為一例由權利要求范圍中記述的構成而達到。

根據本發明，能夠提供高性能的焦距偏離檢測裝置及利用該裝置的光盤裝置。

通過以下結合附圖對本發明實施例的說明，可以更好的了解本發明的其他目的和優點。

附圖說明

圖1是表示本發明的第1及第2實施方式的方框圖。

圖2是具有2層記錄層的光盤的截面模式圖。

圖3是說明本發明的第1實施方式的動作的波形圖。

圖4是表示本發明的第1實施方式的流程圖。

圖5是說明本發明的第1實施方式的動作的另一波形圖。

圖6是表示本發明的第1實施方式的另一流程圖。

圖7是具有3層記錄層的光盤的截面模式圖。

圖8是具有3層記錄層的光盤中焦距伺服偏離時的波形圖。

圖9是具有3層記錄層的光盤中焦距伺服偏離時的另一波形圖。

圖10是表示本發明的第2實施方式的流程圖。

圖11是表示本發明的第3實施方式的方框圖。

圖12是表示本發明的第3實施方式的流程圖。

圖13是具有2層記錄層的光盤中焦距伺服偏離時的波形圖。

圖14是表示本發明的第4實施方式的方框圖。

圖15是表示本發明的第4實施方式中平坦檢測電路的方框圖。

圖16是說明本發明的第4實施方式中平坦檢測電路的動作的波形圖。

圖17是表示本發明的第4實施方式的流程圖。

圖18是說明本發明的第4實施方式的動作的波形圖。

圖19是表示本發明的第5實施方式的方框圖。

圖20是表示本發明的第5實施方式的流程圖。

具體實施方式