[發(fā)明專利]應變絕緣體上半導體材料及制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710001824.0 | 申請日： | 2007-01-05 |
| 公開（公告）號： | CN101000884A | 公開（公告）日： | 2007-07-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | 德溫德拉·K.·薩達納;喬爾·P.·德索扎;斯蒂芬·W.·貝戴爾;亞歷山大·雷茨尼采克;基思·愛德華·弗格爾;格哈瓦姆·G.·莎赫迪;托馬斯·N.·亞當 | 申請（專利權）人： | 國際商業(yè)機器公司 |
| 主分類號： | H01L21/762 | 分類號： | H01L21/762;H01L21/84;H01L27/12 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 應變 絕緣體 半導體材料 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
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- 同類專利
- 專利分類
H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
