[發明專利]利用能更換的單獨噴射端限流器的陣列的電噴射/電紡絲陣列

無效

• 申請號: 200680056904.X
• 申請日: 2006-12-06
• 公開（公告）號: CN101610884A
• 公開（公告）日: 2009-12-23
• 發明（設計）人: 約翰·A·羅伯遜;阿什利·S·斯科特
• 申請（專利權）人: 納米靜力學公司
• 主分類號: B29B9/00
• 分類號: B29B9/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 宋 莉

1.電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其包括：

(a)在歧管內的加壓流質材料共用源；

(b)兩個或更多個噴射端的陣列，所述各噴射端由在所述歧管內的加壓 流質材料的所述共用源進料以產生液體流動路徑；

(c)設置于所述各噴射端從所述加壓流質材料源流到所述各噴射端的單 獨的液體流動路徑內的單獨的流動阻抗裝置，所述單獨的流動阻抗裝置包括 以下的一種或多種：(i)公用的能更換的多孔片區、或(ii)在公用的能更換的液 體不能滲透的片中的一個或多個小孔；

(d)沉積表面；和

(e)高壓電源，其適于產生施加在所述噴射端陣列和沉積表面之間的高 壓電壓。

2.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中所述加壓流質材 料從約0.01psi加壓至約100psi。

3.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中所述流動阻抗裝 置位于較大直徑的腔的頂上，該較大直徑的腔引導流質材料流過所述多孔或 纖維片并進一步進入相連的噴射端中。

4.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中從所述阻抗裝置 到所述噴射或紡絲端的流動路徑包括將所述噴射或紡絲端延伸到高壓電場 中的管。

5.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中從所述阻抗裝置 到所述噴射端的流動路徑包括內徑大于約250微米的管。

6.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中所述能更換的多 孔片為以下的一種或多種：濾膜、紙張、織造布、多孔陶瓷、壓縮的二氧化 硅球、嵌段共聚物、發泡聚合物、膨體聚四氟乙烯膜、開孔泡沫體、或多孔 金屬。

7.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中在所述不能滲透 的片中的一個或多個小孔包括直徑為約10微米～約200微米的一個或多個 孔或者產生接近約78～約31000平方微米的類似總有效面積的一組較小的 孔。

8.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中所述多孔片包括 纖維片。

9.權利要求8的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中所述不能滲透的 片中的所述一個或多個小孔通過機械鉆孔、激光鉆孔、電化學蝕刻、電鑄、 沖孔、穿孔中的一種或多種，或者通過穿過所述液體不能滲透的片的加熱的 尖狀物以機械方式形成。

10.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中含有所述孔的所 述不能滲透的片能從接近所述噴射端流體開口處移開。

11.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中含有所述孔的所 述不能滲透的片附著于框架上，當將該框架插入到所述歧管中時，對該框架 進行分度以使能移動的孔接近所述噴射端流體開口。

12.權利要求10的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中當所述不能滲 透的片裝配在所述歧管中時，該不能滲透的片中的孔位于所述歧管中較大直 徑的腔的頂上，所述腔引導流質材料流從所述孔流出并進一步進入瞬時噴射 端流動路徑中。

13.權利要求11的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中當所述不能滲 透的片裝配在所述歧管中時，該不能滲透的片中的孔位于所述歧管中較大直 徑的腔的頂上，所述腔引導流質材料流從所述孔流出并進一步進入瞬時噴射 端流動路徑中。

14.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中所述流動阻抗裝 置能從接近所述噴射端流體路徑處移開。

15.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其中所述多孔片包括 多于一層的片。

16.權利要求1的電流體力學噴射/紡絲沉積系統，其包括一個或多個歧 管，其中各歧管具有相同的材料或不同的材料。