[發明專利]用于相對于基底定位和/或壓制平面部件的裝置及用于相對于基底定位拾取工具的方法有效
| 申請號: | 200680056838.6 | 申請日: | 2006-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN101632164A | 公開(公告)日: | 2010-01-20 |
| 發明(設計)人: | J·舒斯特;S·艾森林 | 申請(專利權)人: | 庫里克和索法模壓焊接有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L21/68 | 分類號: | H01L21/68;H01L21/683;H01L21/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 譚佐晞;梁 冰 |
| 地址: | 瑞士*** | 國省代碼: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 相對于 基底 定位 壓制 平面 部件 裝置 拾取 工具 方法 | ||
1.一種用于相對于基底(3)定位和/或壓制平面部件(2)的裝置(1),具有設置在工具架(4)上并且在多個自由度上運動的拾取工具(5),其特征在于,所述拾取工具(5)通過能夠被加載壓縮空氣的至少一個空氣軸承(6,7,8)直接或間接地安裝在所述工具架(4)上,其中在預應力作用下所述空氣軸承的軸承位置能夠固定在處于無壓狀態的空氣軸承上,
所述拾取工具(5)設在兩個球形同心的傾斜空氣軸承(6,7)上,第一傾斜軸承本體(12)和第二傾斜軸承本體(13)均具有一個設置在球形軸承板(9)兩側上的相應傾斜軸承面(14,15),所述球形軸承板(9)配給于工具架(4)并且具有沿相同方向彎曲的傾斜軸承面(10,11),兩個傾斜軸承本體在預應力作用下能夠受壓抵靠彼此或抵靠所述軸承板。
2.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,兩個球形的傾斜空氣軸承(6,7)的旋轉中心(16)位于所述拾取工具(5)的拾取平面(17)上。
3.根據權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述兩個球形的傾斜空氣軸承(6,7)的旋轉中心(16)位于所述拾取工具的拾取表面(36)的幾何中心點上。
4.根據權利要求1或權利要求2所述的裝置,其特征在于,軸承板(9)具有中心開口(18),并且,兩個傾斜軸承本體中的一個(12)具有穿過所述開口的導軸(19),并且相鄰的傾斜軸承本體(13)在預應力作用下安裝在軸承板(9)上,所述中心開口的內徑和所述導軸的外徑的尺寸設定方式為使得所述拾取工具(5)能沿所有方向進行有限量的傾斜。
5.根據權利要求4所述的裝置,其特征在于,在表面上延伸并且能夠連接至壓縮空氣源的空氣管道(20)繞所述中心開口(18)設置在球形軸承板(9)的兩個傾斜軸承面(10,11)上。
6.根據權利要求4所述的裝置,其特征在于,所述導軸(19)為空心軸,空氣管道(22)被引導穿過所述空心軸,用于向所述拾取工具(5)加載真空或超壓。
7.根據權利要求4所述的裝置,其特征在于,彈簧元件(23)安裝在所述導軸(19)上,用于使兩個傾斜軸承本體(12,13)受預應力從而抵靠彼此或抵靠所述球形軸承板(9)。
8.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,可控液壓或氣動預應力機構被設置用于固定空氣軸承上的軸承位置。
9.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,在至少一個傾斜軸承本體(13)與工具架(4)之間設置有防止所述拾取工具(5)相對于所述軸承板的旋轉但容許傾斜運動的防旋轉保護裝置(24)。
10.根據權利要求4所述的裝置,其特征在于,在兩個傾斜軸承本體(12,13)中的一個上設置有旋轉空氣軸承(8),所述旋轉空氣軸承(8)具有配給到相關的傾斜軸承本體(13)的旋轉軸承面以及設置在旋轉軸承本體(28)上的相應旋轉軸承面(26),其中所述旋轉軸承本體在預應力作用下安裝在相反放置的傾斜軸承本體(12)上,并且其中所述拾取工具(5)能夠通過向所述旋轉空氣軸承(8)和兩個傾斜空氣軸承中的一個(6)加載壓縮空氣來繞其縱向中心軸線(37)旋轉。
11.根據權利要求10所述的裝置,其特征在于,所述拾取工具能夠通過電動旋轉驅動裝置(27)以旋轉方式被驅動。
12.根據權利要求11所述的裝置,其特征在于,所述旋轉驅動裝置(27)通過所述旋轉軸承本體(28)以可拆卸方式緊固到承載所述旋轉空氣軸承(8)的所述傾斜軸承本體(13)上。
13.根據權利要求10所述的裝置,其特征在于,所述旋轉軸承本體(28)具有中心開口(30),并且所述旋轉軸承本體(28)在所述中心開口處被引導在所述導軸(19)上。
14.根據權利要求10所述的裝置,其特征在于,所述球形軸承板(9)上的兩個球形傾斜空氣軸承(6,7)能夠通過分開的壓縮空氣管線(21a,21b)進行加載,并且,承載所述旋轉空氣軸承(8)的所述傾斜軸承本體(13)能夠被鎖定在所述軸承板(9)上,因此,如果所述旋轉空氣軸承(8)和所述傾斜軸承本體(12)上的所述傾斜空氣軸承(6)均被加載以壓力,則只有后者能夠繞其軸線旋轉。
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
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