[發明專利]烹調裝置

有效

• 申請號: 200680055809.8
• 申請日: 2006-12-07
• 公開（公告）號: CN101512229A
• 公開（公告）日: 2009-08-19
• 發明（設計）人: 李泰勛
• 申請（專利權）人: LG電子株式會社
• 主分類號: F24C7/02
• 分類號: F24C7/02
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 劉建功;車 文

技術領域

本發明總體涉及一種烹調裝置，更具體而言，涉及一種能有效冷 卻烹調裝置的后部空間的烹調裝置，在該烹調裝置中，安置有諸如對 流加熱器組件、磁控管、高壓變壓器、高壓電容器之類的加熱元件。

背景技術

韓國專利申請公開No.2005-0083504公開了一種烹調裝置的典型 實例，該烹調裝置具有設置于烹調腔一側的主要部件，包括：磁控管、 高壓變壓器、高壓電容器以及冷卻風扇。韓國專利申請公開No. 2006-0037003公開了一種烹調裝置，該烹調裝置具有安裝于烹調腔上 側的主要部件、并將對流加熱器組件容納于該烹調腔的后壁，這些主 要部件包括：磁控管、高壓變壓器以及高壓電容器。韓國實用新型申 請公開No.1999-0010444公開了一種烹調裝置，該烹調裝置具有設置于 烹調腔下側的主要部件和操作板，這些主要部件包括：磁控管、高壓 變壓器以及冷卻風扇。

另外，韓國實用新型申請公開No.1998-0016489公開了一種烹調 裝置，該烹調裝置具有安裝于烹調腔側壁的主要部件，并設置有從該 烹調腔的頂壁開始而到達其側面的冷卻流徑，這些主要部件包括磁控 管、高壓變壓器以及冷卻風扇。

韓國專利申請公開No.1998-0053939公開了作為烹調裝置典型實 例的微波爐的門，其中，該門設置有用于阻擋微波的門框以及環繞該 門框的阻流蓋。

韓國專利申請公開No.1995-0003729公開了一種烹調裝置，該烹 調裝置具有從烹調腔的側面開始、經過烹調腔的底側而到達門的烹調 流徑。

韓國專利申請公開No.2004-0108050公開了烹調裝置中所使用的 操作面板的示例，其中，該操作面板設置有使用靜電的玻璃觸摸鍵盤。

發明內容

技術問題

本發明的一個目的是提供一種烹調裝置，該烹調裝置能有效冷卻 其后部空間。

本發明的另一目的是提供一種烹調裝置，該烹調裝置能冷卻其后 部空間和上部空間。

本發明的又一目的是提供一種烹調裝置，該烹調裝置能有效冷卻 其后部空間、上部空間和門。

本發明的又一目的是提供一種烹調裝置，該烹調裝置通過從下部 到上部的冷卻氣流來冷卻其后部空間。

本發明的又一目的是提供一種烹調裝置，該烹調裝置能利用在其 后部空間內所形成的冷卻流徑的流將烹調腔內所產生的熱量和氣味除 去。

本發明的又一目的是提供一種烹調裝置，該烹調裝置能更高效地 利用主要留給對流加熱器組件的后部空間，并能通過冷卻流徑有效冷 卻該后部空間。

本發明的又一目的是提供一種烹調裝置，該烹調裝置配備有布置 在后部空間內的諸如磁控管、高壓變壓器、高壓電容器等等之類的加 熱元件，并能有效冷卻這些加熱元件。

本發明的又一目的是提供一種烹調裝置，該烹調裝置配備有安置 于后部空間下部的冷卻風扇，并能通過沿著由該冷卻風扇所形成的冷 卻流徑而布置主要部件來對這些主要部件進行冷卻。

本發明的又一目的是提供一種烹調裝置，該烹調裝置通過利用其 后部空間而具有高度和寬度增加的更大烹調腔，并能有效冷卻該后部 空間。

本發明的又一目的是提供一種烹調裝置，該烹調裝置通過利用盤 子代替轉盤、并通過利用烹調裝置的后部空間而具有高度、寬度和深 度可調的烹調腔。

技術方案

為了實現上述目的和優點，提供了一種烹調裝置，包括；烹調腔； 后部空間，位于烹調腔后方；以及冷卻流徑，位于后部空間并從后部 空間的下部延伸至后部空間的上部，以冷卻該后部空間。通過此構造， 使得通過從后部空間的下部運動至其上部的流來冷卻烹調裝置的后部 空間成為可能。

在本發明的另一方面中，該烹調裝置還包括：加熱構件，包括位 于后部空間的對流加熱器組件、磁控管、高壓變壓器、以及高壓電容 器中的至少兩個。通過此構造，能有效利用、并通過冷卻流徑有效冷 卻主要設計用于對流加熱器組件的后部空間。

在本發明的另一方面中，冷卻流徑由分別用于冷卻至少兩個加熱 構件的至少兩個單獨的子通道組成。通過此構造，就空間利用而言， 將需要冷卻的加熱構件有效地布置在后部空間內，并對這些加熱構件 進行有效冷卻。