[發(fā)明專利]包含含有透明和反光材料的碎片的人造大理石及其制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680054953.X
• 申請(qǐng)日: 2006-12-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101460422A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-06-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曹亮煥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: LG化學(xué)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C04B26/06
• 分類號(hào): C04B26/06
• 代理公司: 北京金信立方知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 朱 梅;黃麗娟

1.用于人造大理石的高比重反光碎片，其由以從上至下的次序?qū)? 壓的高比重層、低比重層和反光層組成，

其中，所述高比重層具有高于人造大理石比重的比重，所述低比 重層具有低于人造大理石比重的比重，并且所述反光層包含反光材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高比重反光碎片，其中，所述高比重反 光碎片與使用該碎片的人造大理石中的材料組合物之間的比重差別不 超過(guò)0.5。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高比重反光碎片，其中，所述高比重反 光碎片的總比重是在1.0～2.0的范圍內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高比重反光碎片，其中，所述高比重層 的比重是在1.5～10的范圍內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高比重反光碎片，其中，所述低比重層 的比重是在0.1～2.0的范圍內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高比重反光碎片，其中，所述低比重層 為透光率為70～100％的透明層。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高比重反光碎片，其中，所述高比重層 和低比重層包含由選自丙烯酸樹(shù)脂、不飽和聚酯樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、聚 氯乙烯(PVC)、聚苯乙烯(PS)、聚碳酸酯(PC)、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯 (PET)和苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯(SMMA)共聚物中的至少一種組成的 基體樹(shù)脂。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高比重反光碎片，其中，所述低比重層 為包含丙烯酸樹(shù)脂或不飽和聚酯樹(shù)脂作為基體樹(shù)脂的透明層。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高比重反光碎片，其中，所述高比重層 包含比重為2.0～10的填充物。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的高比重反光碎片，其中，所述填充物 是選自鋇、石粉、二氧化硅、二氧化鈦、氫氧化鋁、金屬粉末和金屬 鹽中的至少一種。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高比重反光碎片，其中，所述反光材 料是由選自金屬、非金屬、珍珠和玻璃片中的至少一種組成。

12.一種制備用于人造大理石的高比重反光碎片的方法，該方法 包含如下步驟：

制備用作比人造大理石比重低的低比重層的平板；

在所述用作低比重層的平板上層壓用作比人造大理石比重高的高 比重層的平板；

在所述用作低比重層的平板下面層壓用作反光層的平板；和

粉碎所得層壓板。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，通過(guò)調(diào)整向所述高比重 層平板加入填充物的比重和含量來(lái)調(diào)節(jié)高比重反光碎片的比重使其等 于或接近于人造大理石材料組合物的比重。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，通過(guò)鑄造、加壓、振動(dòng) 器或UV固化來(lái)固化各平板。

15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述用作反光層的平板 是通過(guò)在反光層上轉(zhuǎn)印或沉積金屬形成的。

16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述用作反光層的平板 是通過(guò)向樹(shù)脂中加入珍珠、玻璃片或它們的混合物，并將混合物涂敷 在反光層上形成的。

17.使用根據(jù)權(quán)利要求1～11中任一項(xiàng)所述的高比重反光碎片的人 造大理石。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的人造大理石，其中，所述人造大理石 包含由暴露在人造大理石表面之外的透明層和設(shè)置在透明層下面的反 光層組成的反光透明碎片，該反光透明碎片是通過(guò)在透明的低比重層 上砂紙打磨除去高比重層形成的。

19.一種制備人造大理石的方法，該方法包括如下步驟：

制備用作比人造大理石比重低的透明層的平板；

在所述用作透明層的平板上層壓用作比人造大理石比重高的高比 重層的平板；

在所述用作透明層的平板下面層壓用作反光層的平板；

粉碎所得層壓板以制備高比重反光碎片；

使用所述高比重反光碎片制備人造大理石；和

通過(guò)砂紙打磨除去所述高比重層使所述透明層暴露在人造大理石 表面之外。