[發(fā)明專利]電弧蒸發(fā)源及真空蒸鍍裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680054700.2
• 申請(qǐng)日: 2006-06-22
• 公開（公告）號(hào): CN101448969A
• 公開（公告）日: 2009-06-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小泉康浩;能勢(shì)功一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 新明和工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司
• 代理人: 衷誠(chéng)宣

1.一種電弧蒸發(fā)源，其特征在于，形成如下所述結(jié)構(gòu)，即

具備保持間隙相互對(duì)置的第1電極和第2電極，

以所述第1電極和第2電極中的至少任意一個(gè)電極作為陰極，基于所述陰極與陽(yáng)極之間發(fā)生的真空電弧放電，所述第1電極和第2電極中的另一個(gè)電極能夠回收從所述陰極放出的蒸發(fā)物質(zhì)。

2.一種真空蒸鍍裝置，其特征在于，具備

將權(quán)利要求1所述的電弧蒸發(fā)源配置于能夠減壓的內(nèi)部的真空槽、以及

對(duì)所述陰極和所述陽(yáng)極提供使所述陰極與所述陽(yáng)極之間能夠發(fā)生真空電弧放電的電力的電力供給手段。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述陽(yáng)極是所述真空槽。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸發(fā)物質(zhì)是所述陰極的材料構(gòu)成的小滴和離子。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

具備在所述真空槽內(nèi)部配置的工件，

所述第1電極和第2電極是棒材，所述第1電極和第2電極利用它們的端面夾著所述間隙地，使所述第1電極和第2電極的長(zhǎng)邊方向一致地加以配置，所述工件配置于能夠從所述間隙看到的位置上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

具備配置于所述真空槽內(nèi)部，回收所述蒸發(fā)物質(zhì)的回收構(gòu)件，

所述回收構(gòu)件的面，除了所述工件與所述間隙之間的區(qū)域外，形成圍著所述間隙彎曲的結(jié)構(gòu)。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，具有

所述第1電極為所述陰極的第1使用狀態(tài)、以及所述第2電極為所述陰極的第2使用狀態(tài)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，具備在所述第1使用狀態(tài)與所述第2使用狀態(tài)之間進(jìn)行切換的切換手段。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述電力供給手段是直流電源，

所述切換手段是將與所述直流電源的陰極側(cè)端子的連接在所述第1電極與第2電極之間切換的開關(guān)。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述電力供給手段是交流電源，

所述切換手段在所述交流電源的一個(gè)端子與所述第1電極之間、以及所述交流電源的另一個(gè)端子與所述第2電極之間，具有對(duì)所述交流電源提供的電力進(jìn)行整流的整流元件。

11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述電力供給手段具備

具有連接于所述第1電極的負(fù)極側(cè)的端子和連接于所述陽(yáng)極的正極側(cè)的端子的第1直流電源、以及具有連接于所述第2電極的負(fù)極側(cè)的端子和連接于所述陽(yáng)極的正極側(cè)的端子的第2直流電源。