[發(fā)明專利]含五(二甲基氨基)二硅烷前體的化合物及其制備方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680054467.8 | 申請(qǐng)日： | 2006-04-03 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN101443338A | 公開(kāi)（公告）日： | 2009-05-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | C·迪薩拉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 喬治洛德方法研究和開(kāi)發(fā)液化空氣有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C07F7/10 | 分類號(hào)： | C07F7/10;C07F7/12;C23C16/40 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務(wù)所 | 代理人： | 林柏楠;劉金輝 |
| 地址： | 法國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 法國(guó);FR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 甲基 氨基 硅烷 化合物 及其 制備 方法 | ||
1.一種含五(二甲基氨基)二硅烷前體的化合物，所述前體具有下式：
Si2(NMe2)5Y??(I)
其中Y選自Cl、H和氨基。
2.權(quán)利要求1的化合物，其中所述化合物含有小于5體積％的 Si2(NMe2)6。
3.權(quán)利要求1或2的含五(二甲基氨基)二硅烷前體的化合物，其中氨 基是NH(CnH2n+1)，其中0≤n≤5。
4.權(quán)利要求1或2的含五(二甲基氨基)二硅烷前體的化合物，其中 Y＝Cl。
5.一種制備含五(二甲基氨基)二硅烷前體的化合物的方法，所述前體 具有下式(I)：
Si2(NMe2)5Y??(I)
其中每個(gè)Y代表Cl、H或氨基配體(NHR)，其中R是(CnH2n+1)， 其中0≤n≤5，
所述方法的特征在于在第一步中，通過(guò)六氯二硅烷在有機(jī)溶劑中與至 少優(yōu)選5倍摩爾量的二甲胺(CH3)2NH反應(yīng)，得到含Si2(NMe2)5Cl的化合 物。
6.權(quán)利要求5的方法，該方法包括第二步，其中含Si2(NMe2)5Cl的化 合物中剩余的氯通過(guò)使用還原劑例如LiAlH4和NaBH4被H取代而形成 Si2(NMe2)5H；或者所述氯通過(guò)使用Li(NR1R2)被氨基例如NH2、NHMe、 NHEt或NHR1R2取代，或NHR1R2，其中R1、R2選自(CnH2n+1)，其中0 ≤n≤5，形成Si2(NMe2)5[NH(CnH2n+1)]，其中0≤n≤5。
7.權(quán)利要求5或6的制備方法，其特征在于反應(yīng)在-30℃到50℃的溫 度進(jìn)行。
8.權(quán)利要求5或6的制備方法，其特征在于有機(jī)溶劑是正己烷。
9.權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)的含前體的化合物用于將所述前體進(jìn)一步輸 送到蒸發(fā)裝置的用途，其中所述含前體的化合物溶解在烴溶劑中，所述烴 溶劑包括甲苯。
10.權(quán)利要求9的用途，用于在基材上生產(chǎn)SiN或SiON膜。
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