[發明專利]感光性樹脂組合物及感光性轉印薄膜以及圖案形成方法

無效

• 申請號: 200680053832.3
• 申請日: 2006-11-08
• 公開（公告）號: CN101401035A
• 公開（公告）日: 2009-04-01
• 發明（設計）人: 南一守;后藤靖友;佐藤守正
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/027;G03F7/028;G03F7/033;H05K3/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 朱 丹

1.一種感光性樹脂組合物，其特征在于，

含有粘合劑、聚合性化合物以及光聚合引發劑，熔融粘度在50℃下為40,000～120,000Pa·s，在70℃下為5,000～20,000Pa·s。

2.根據權利要求1所述的感光性樹脂組合物，其中，

粘合劑含有重均分子量為3,000～10,000的共聚物A和重均分子量為30,000～150,000的共聚物B，所述共聚物A與所述共聚物B的質量比為A/B＝10/90～90/10。

3.根據權利要求2所述的感光性樹脂組合物，其中，

共聚物A與共聚物B的質量比為A/B＝10/90～40/60。

4.根據權利要求2～3中任意一項所述的感光性樹脂組合物，其中，

共聚物A具有：來源于苯乙烯及苯乙烯衍生物的至少任意一種物質的結構單元。

5.根據權利要求2～4中任意一項所述的感光性樹脂組合物，其中，

共聚物B含有：具有羧基的乙烯系單體。

6.根據權利要求1～5中任意一項所述的感光性樹脂組合物，其中，

聚合性化合物含有：具有尿烷基及芳基的至少任意一種基團的單體。

7.根據權利要求1～6中任意一項所述的感光性樹脂組合物，其中，

光聚合引發劑含有：從鹵代烴衍生物、氧化膦、六芳基聯咪唑、肟衍生物、有機過氧化物、硫代化合物、酮化合物、酰基氧化膦化合物、芳香族鎓鹽以及酮肟醚中選擇的至少一種物質。

8.一種感光性轉印薄膜，其特征在于，

在支撐體上具有由權利要求1～7中任意一項所述的感光性樹脂組合物形成的感光層。

9.根據權利要求8所述的感光性轉印薄膜，其中，

在用390～420nm波長的激光對感光層進行曝光、顯影時，使該感光層的曝光部分的厚度在該曝光及顯影后不發生變化的、在所述曝光中使用的光的最小能量即感度為0.1～20mJ/cm²。

10.一種圖案形成方法，其特征在于，

包括：在將權利要求8～9中任意一項所述的感光性轉印薄膜中的該感光層層疊在被處理基體上之后，對該感光層進行曝光的工序。

11.根據權利要求10所述的圖案形成方法，其中，

使用曝光頭，其中，所述曝光頭具備光照射機構和光調制機構，所述光調制機構具有接受來自所述光照射機構的光并射出的n個(其中，n為2以上的自然數)排列成二維狀的描素部，所述光調制機構可以對應圖案信息來控制所述描素部，另外，所述曝光頭配置成所述描素部的列方向相對該曝光頭的掃描方向呈規定的設定傾斜角度θ，

利用使用描素部指定機構，對于所述曝光頭，指定可以使用的所述描素部中的用于N重曝光的所述描素部，其中，N為2以上的自然數，

利用描素部控制機構，對于所述曝光頭，以只有由所述使用描素部指定機構指定的所述描素部參與曝光的方式，進行所述描素部的控制，

相對于所述感光層，使所述曝光頭在掃描方向上相對地移動。

12.根據權利要求11所述的圖案形成方法，其中，

利用多個曝光頭進行曝光，使用描素部指定機構指定：在參與由多個所述曝光頭形成的被曝光面上的重復曝光區域即曝光曝光頭間連接區域的曝光的描素部中，為了實現所述曝光曝光頭間連接區域中的N重曝光而使用的所述描素部。

13.根據權利要求12所述的圖案形成方法，其中，

利用多個曝光頭進行曝光，使用描素部指定機構指定：在參與由多個所述曝光頭形成的被曝光面上的重復曝光區域即曝光曝光頭間連接區域以外的曝光的描素部中，為了實現所述曝光曝光頭間連接區域以外的區域中的N重曝光而使用的所述描素部。

14.根據權利要求11～13中任意一項所述的圖案形成方法，其中，

設定傾斜角度θ設定成相對θ_ideal，滿足θ≧θ_ideal的關系，其中，相對于N重曝光數的N、描素部的列方向的個數s、所述描素部的列方向的間隔p以及在使曝光頭傾斜的狀態下沿著與該曝光頭的掃描方向正交的方向上的描素部的列方向的間距δ，θ_ideal滿足s?p?sin?θ_ideal≧Nδ。