[發(fā)明專利]在成像系統(tǒng)中進行位置檢測的方法和設備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200680053829.1 | 申請日: | 2006-02-06 |
| 公開(公告)號: | CN101401022A | 公開(公告)日: | 2009-04-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | J·魯維南;P·科阿南 | 申請(專利權)人: | 諾基亞公司 |
| 主分類號: | G02B27/64 | 分類號: | G02B27/64;G01D5/34 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 | 代理人: | 王茂華;李 輝 |
| 地址: | 芬蘭*** | 國省代碼: | 芬蘭;FI |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成像 系統(tǒng) 進行 位置 檢測 方法 設備 | ||
1.一種成像系統(tǒng),該系統(tǒng)包括:
成像媒介,定位于圖像平面處;
至少一個透鏡元件,用于將圖像投影到所述成像媒介上,所述透鏡元件限定光軸;
用于響應于所述成像系統(tǒng)的不期望移動相對于所述圖像平面對投影圖像進行移位的裝置,所述移位裝置具有固定連接到所述成像系統(tǒng)的主體部分的第一承載體部分和用于安裝光學部件以便相對于所述第一部分移動的第二承載體部分;
位置檢測模塊,用于檢測所述第二承載體部分相對于所述第一承載體部分的位置,所述位置檢測模塊包括:
反射表面,設置在所述第一承載體部分和所述第二承載體部分中的一個上,所述反射表面與承載體部分表面的邊沿相鄰定位,
發(fā)光元件,與所述反射表面間隔地布置在所述第一承載體部分和第二承載體部分的另一個上,用于產(chǎn)生光束來照射所述反射表面,以使得一部分光束碰撞所述反射表面而形成被照射區(qū)域,以及另一部分光束落在所述承載體部分表面的邊沿外,以及
光傳感器,用于檢測從所述被照射區(qū)域反射的光,以便提供與被照射區(qū)域有關系的電輸出,其中,當致使所述第二承載體部分經(jīng)歷相對于所述第一承載體部分的移動時,所述被照射區(qū)域響應于所述相對移動而改變;以及
處理器,用于基于所述電輸出和所述被照射區(qū)域之間的所述關系由所述電輸出計算所述相對移動的量。
2.根據(jù)權利要求1所述的成像系統(tǒng),其中,安裝在所述第二承載體部分上的光學部件在基本垂直于所述光軸的方向上包括所述成像媒介和透鏡元件中的一個。
3.根據(jù)權利要求1所述的成像系統(tǒng),其特征進一步在于:用于彎折所述光軸的棱鏡,其中安裝在所述第二承載體部分上的光學部件包括所述棱鏡,以及所述第二承載體部分具有用以圍繞基本上垂直于所述圖像平面的旋轉軸來旋轉所述棱鏡的裝置。
4.根據(jù)權利要求1所述的成像系統(tǒng),其特征進一步在于,具有用于彎折所述光軸的背面的棱鏡,其中安裝在所述第二承載體部分上的光學部件包括所述棱鏡,以及所述第二承載體部分具有用以圍繞基本上平行于所述圖像平面和所述棱鏡的背面的旋轉軸來旋轉所述棱鏡的裝置。
5.根據(jù)權利要求1所述的成像系統(tǒng),其進一步包括:
移動控制器,用于基于所述成像系統(tǒng)的不期望移動確定移動所述光學部件的量;以及
驅動機構,用于基于所述所確定的量移動所述第二承載體部分。
6.根據(jù)權利要求5所述的成像系統(tǒng),其進一步包括:
移動檢測模塊,用于檢測所述成像系統(tǒng)的不期望移動。
7.根據(jù)權利要求6所述的成像系統(tǒng),其中所述移動檢測模塊包括一個或多個陀螺儀傳感器。
8.根據(jù)權利要求1所述的成像系統(tǒng),其中所述成像媒介包括圖像傳感器。
9.根據(jù)權利要求1所述的成像系統(tǒng),其特征在于所述位置檢測模塊進一步包括:
另外的反射表面,設置在所述第一承載體部分和第二承載體部分中的所述一個上,所述另外的反射表面與所述承載體部分表面的不同邊沿相鄰定位,
另外的發(fā)光元件,與所述另外的反射表面間隔地布置在所述第一承載體部分和第二承載體部分中的所述另一個上,用于產(chǎn)生不同光束來照射所述另外的反射表面,以使得一部分不同光束碰撞所述另外的反射表面而形成不同的被照射區(qū)域,以及另一部分不同光束落在所述承載體部分表面的所述不同邊沿外,以及
另外的光傳感器,用于檢測從所述不同的被照射區(qū)域反射的光,從而提供與所述不同的被照射區(qū)域具有關系的另外的電輸出,以便允許所述處理器還由所述另外的電輸出確定所述相對移動。
10.根據(jù)權利要求9所述的成像系統(tǒng),其中,所述相對移動基于所述電輸出和所述另外的電輸出之間的差值來確定。
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