[發明專利]清潔半導體基片的方法和裝置

無效

• 申請號: 200680053425.2
• 申請日: 2006-12-26
• 公開（公告）號: CN101389414A
• 公開（公告）日: 2009-03-18
• 發明（設計）人: 埃里克·M·弗里爾;弗雷德·C·雷德克;卡特里娜·米哈利欽科;邁克爾·拉夫金;米哈伊爾·科羅利克
• 申請（專利權）人: 朗姆研究公司
• 主分類號: B08B3/00
• 分類號: B08B3/00;B08B7/00
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 章社杲;吳貴明

1.一種用于清潔基片的方法，包括如下方法操作：

將活化溶液應用于該基片表面；

將固態清潔元件的表面接觸該活化溶液和該基片表面， 導致該固態清潔元件的表面和該基片表面的電離；

將該活化溶液吸收進該固態清潔元件的一部分；和

將該基片或該固態清潔元件的一個相對彼此移動以清潔 該基片表面。

2.根據權利要求1所述的方法，其中該活化溶液是堿性溶液。

3.根據權利要求1所述的方法，其中該活化溶液是堿性溶液，其 包括從由氫氧化銨、氫氧化鈉、氫氧化鉀、三乙醇胺和四甲基 氫氧化銨組成的組中選取的堿。

4.根據權利要求1所述的方法，其中該固態清潔元件是由脂肪酸 組成的平面。

5.根據權利要求1所述的方法，其中該固態清潔元件是由從羧 酸、硫酸和膦酸組成的組中選取的組份所組成的平面。

6.根據權利要求1所述的方法，其中該固態清潔元件是由從烷基 磺酸鹽、烷基磷酸鹽和烷基膦酸酯組成組中選擇的組份所組成 的。

7.根據權利要求1所述的方法，其中該活化溶液擴散入該固態清 潔元件的一部分，導致該部分固態清潔元件變得相對該固態清 潔元件的其他部分更軟。

8.根據權利要求1所述的方法，其中該活化溶液是表面活性劑。

9.根據權利要求8所述的方法，其中該表面活性劑是離子型表面 活性劑。

10.一種用于清潔基片的清潔設備，包括：

具有外部表面的固態材料，該外部表面配置為當暴露于 設置在該基片表面之上的活化溶液時發生電離并變得比該固 態材料的其他部分軟；和

支撐結構，其配置為支撐該固態材料并且施加力以導致 該外部表面接觸該基片表面。

11.根據權利要求10所述的設備，其中該固態材料從由脂肪酸、 烷基磺酸鹽、烷基磷酸鹽和烷基膦酸酯組成的組中選取。

12.根據權利要求10所述的設備，其中該支撐結構包括穿過該固 態材料軸的轉軸，以及其中該固態材料圍繞該軸轉動。

13.根據權利要求10所述的設備，其中該支撐結構是用萬向架固 定的，并且向該固態材料提供相對該基片的轉動。

14.根據權利要求10所述的設備，進一步包括：流體傳送系統， 其將活化溶液提供至該基片表面。

15.根據權利要求10所述的設備，其中該活化溶液是堿性的。

16.根據權利要求10所述的設備，其中該活化溶液是表面活性劑。

17.根據權利要求10所述的設備，其中該外部表面的部分被該活 化溶液電離，以及其中該外部表面是平面。

18.一種用于清潔基片的清潔系統，包括：

支撐件，其配置為支撐該基片；

流體傳送系統，其配置為將活化溶液傳送至該基片表面；

具有暴露表面的固態清潔元件，當該暴露表面與該活化 溶液對接時，該暴露表面變成電離的并具有相對于該固態清潔 元件的其他部分變軟的部分；和

支撐該固態清潔元件的支撐結構，該支撐結構配置為在 清潔操作過程中保持該暴露表面抵靠該基片表面。

19.根據權利要求18所述的清潔系統，其中該固態清潔元件基本 上由脂肪酸組成。

20.根據權利要求18所述的清潔系統，其中該固態清潔元件是從 烷基磺酸鹽、烷基磷酸鹽和烷基膦酸酯組成的組中選取的材 料。

21.根據權利要求18所述的清潔系統，其中該活化溶液的pH高 于7.0。

22.根據權利要求18所述的清潔系統，其中該活化溶液是表面活 性劑。