[發(fā)明專利]III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件及其制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680052876.4 | 申請(qǐng)日: | 2006-12-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101375416A | 公開(kāi)(公告)日: | 2009-02-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金昌臺(tái);鄭賢敏;全議圭;金賢錫;南起煉;崔炳均 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 艾比維利股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/00 | 分類號(hào): | H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 丁香蘭;譚輝 |
| 地址: | 韓國(guó)慶*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | iii 氮化物 半導(dǎo)體 發(fā)光 器件 及其 制造 方法 | ||
1.一種制造III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件的方法,所述III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件包括:具有第一表面和與所述第一表面相對(duì)的第二表面的襯底;在所述襯底的所述第一表面?zhèn)壬L(zhǎng)的多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層,并且所述多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層包括具有第一電導(dǎo)率的第一氮化物半導(dǎo)體層、具有與所述第一電導(dǎo)率不相同的第二電導(dǎo)率的第二氮化物半導(dǎo)體層、和介于所述第一氮化物半導(dǎo)體層和所述第二氮化物半導(dǎo)體層之間的用于通過(guò)電子和空穴的復(fù)合而發(fā)光的有源層;與所述第一氮化物半導(dǎo)體層電連接的第一電極;和與所述第二氮化物半導(dǎo)體層電連接的第二電極;
所述方法包括:
在所述襯底的所述第一表面上形成溝槽的第一步驟;
在其中形成有所述溝槽的所述襯底的所述第一表面?zhèn)壬仙L(zhǎng)所述多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層的第二步驟;
從所述襯底的所述第二表面?zhèn)炔糠忠瞥鲆r底從而使得所述第一電極能穿過(guò)所述溝槽與所述第一氮化物半導(dǎo)體層電連接的第三步驟;和
由所述襯底的所述第二表面?zhèn)刃纬伤龅谝浑姌O從而使得所述第一電極能穿過(guò)所述溝槽與所述第一氮化物半導(dǎo)體層電連接的第四步驟。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,在所述第一步驟中,所述溝槽形成為不穿透所述襯底。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,所述方法在所述第四步驟之前進(jìn)一步包括由所述襯底的所述第一表面?zhèn)刃纬伤龅谝浑姌O的步驟。
4.如權(quán)利要求3所述的方法,其中,所述步驟進(jìn)一步包括在由所述襯底的所述第一表面?zhèn)刃纬伤龅谝浑姌O之前,由所述襯底的所述第一表面?zhèn)瓤涛g所述多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層以暴露所述第一氮化物半導(dǎo)體層的工序。
5.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,在所述第四步驟中,所述第一電極作為反射膜形成在所述襯底的整個(gè)第二表面上。
6.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,在所述第二步驟中,使所述多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層生長(zhǎng)而形成開(kāi)口,所述開(kāi)口形成在所述溝槽的上部。
7.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述襯底是藍(lán)寶石襯底。
8.一種III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件,其包括:
具有第一表面、與所述第一表面相對(duì)的第二表面和由所述第一表面延伸至所述第二表面的溝槽的藍(lán)寶石襯底;
在所述藍(lán)寶石襯底的所述第一表面?zhèn)壬L(zhǎng)的多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層,并且所述多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層包括具有第一電導(dǎo)率的第一氮化物半導(dǎo)體層、具有與所述第一電導(dǎo)率不相同的第二電導(dǎo)率的第二氮化物半導(dǎo)體層、和介于所述第一氮化物半導(dǎo)體層和所述第二氮化物半導(dǎo)體層之間的用于通過(guò)電子和空穴的復(fù)合而發(fā)光的有源層,在所述多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層中形成與所述溝槽相通的開(kāi)口;
由所述藍(lán)寶石襯底的所述第二表面穿過(guò)所述溝槽電連接至所述第一氮化物半導(dǎo)體層的第一電極;和
與所述第二氮化物半導(dǎo)體層電連接的第二電極。
9.如權(quán)利要求8所述的III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件,其中,所述第一氮化物半導(dǎo)體層在所述開(kāi)口中暴露,并且所述第一電極形成在所暴露的第一氮化物半導(dǎo)體層上。
10.如權(quán)利要求8所述的III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件,其中,所述第一電極作為反射膜形成在所述藍(lán)寶石襯底的整個(gè)第二表面上。
11.一種III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件,其包括:
其中形成有溝槽的襯底;
覆蓋所述襯底生長(zhǎng)的多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層,并且所述多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層包括用于通過(guò)電子和空穴的復(fù)合而發(fā)光的有源層;
沿著所述多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層在所述溝槽上形成的開(kāi)口;和
在所述開(kāi)口中的臺(tái)階。
12.如權(quán)利要求11所述的III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件,所述III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件包括穿過(guò)所述溝槽與所述多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層電接觸的第一電極。
13.如權(quán)利要求12所述的III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件,其中,所述多個(gè)氮化物半導(dǎo)體層包括通過(guò)刻蝕而暴露的氮化物半導(dǎo)體層,并且所述第一電極與所述暴露的氮化物半導(dǎo)體層電接觸。
14.如權(quán)利要求11所述的III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件,其中,所述襯底包括沿所述溝槽形成的劃線。
15.如權(quán)利要求11所述的III族氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件,其中,所述開(kāi)口形成在所述劃線上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于艾比維利股份有限公司,未經(jīng)艾比維利股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200680052876.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類





