[發明專利]氧化反應器和氧化方法無效
| 申請號： | 200680052859.0 | 申請日： | 2006-12-05 |
| 公開（公告）號： | CN101394924A | 公開（公告）日： | 2009-03-25 |
| 發明（設計）人： | S·韋爾斯;B·朗安克;R·克雷恩施密特;B·霍廷 | 申請（專利權）人： | 猶德有限公司 |
| 主分類號： | B01J12/00 | 分類號： | B01J12/00;B01J19/00;B01J19/24;B01D53/22;C01B3/38 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 殷 駿 |
| 地址： | 德國多*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化 反應器 方法 | ||
1.氧化反應器，包括：
用于導入含氧氣體且導入分配腔或分配元件中的進料管線，
用于導入待部分或全部氧化的原料氣體且導入反應腔中的進料管 線，其中
多個氣密性和氧傳導性膜元件被設置在反應腔中，所述膜元件作 為外表面具有有關氧氣輸送的入口和出口面，其中所述出口面設置在 反應腔的側面上且所述膜元件構成含氧氣體可穿流過的分配腔和收集 腔和/或排放段之間的空間連接，并且
所述反應腔還能填裝催化劑，
其特征在于，利用一個或幾個間隔元件確保在所述膜元件的外表 面和可裝入的催化劑之間的設定的最小距離，所述膜元件是膜元件疊 層，所述疊層是一束或一組平行或交錯或扭曲的膜元件。
2.權利要求1的氧化反應器，其特征在于所述間隔元件為惰性成 型體，其包裹封閉各膜元件束或在朝向反應腔的方向上置于膜元件之 前，所述成型體以堆料形式存在和/或成型為單個元件形式。
3.權利要求2的氧化反應器，其特征在于所述元件形式為套管。
4.權利要求1的氧化反應器，其特征在于所述間隔元件是直接貼 附到所述膜外表面上的一種或幾種惰性材料。
5.權利要求4的氧化反應器，其特征在于所述惰性材料具有多孔 結構，其中所述孔體積小于催化劑的細粒部分的大小。
6.權利要求1-5任一項的氧化反應器，其特征在于所述間隔元件 是催化活性的成型體，其在特定的反應器操作過程中在這一區域中氧 化并由此變為惰性，和其與所述膜元件束的出口面相對設置或接觸式 設置。
7.權利要求6的氧化反應器，其特征在于所述間隔元件具有一個 或幾個催化活性表面，并且指向反應腔的表面以催化活性材料涂覆或 由催化活性材料構成。
8.權利要求6的氧化反應器，其特征在于所述間隔元件具有規則 或不規則結構。
9.權利要求1-5任一項的氧化反應器，其特征在于所述膜元件束 由一種或幾種源于鈣鈦礦ABO3、螢石結構AO2、奧里維里斯結構 [Bi2O2][An-1BnOx]或鐵鋁酸四鈣結構A2B2O5的材料制成。
10.權利要求1-5任一項的氧化反應器，其特征在于所述膜元件 束由一種或幾種可由以下結構通式描述的材料形成： La1-x(Ca，Sr，Ba)xCo1-yFeyO3-δ、Ba(Sr)Co1-xFexO3-δ、 Sr(Ba)Ti(Zr)1-x-yCoyFexO3-δ、BaCoxFeyZr1-x-yO3-δ、La1-xSrxGa1-yFeyO3-δ、 La0.5Sr0.5MnO3-δ、La2NixFeyO4-δ、LaFe(Ni)O3-δ或La0.9Sr0.1FeO3-δ。
11.權利要求1-5任一項的氧化反應器，其特征在于所述膜元件 束具有在950℃和＞0.1巴的位于膜兩側的游離氣體相之間的氧分壓差 下平均值為等于或大于0.1Nm3/(m2h)的透氧率。
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