[發明專利]應用具有預定反射率變化的微鏡陣列構成的投射系統的無縫隙曝光

有效

• 申請號: 200680052352.5
• 申請日: 2006-10-24
• 公開（公告）號: CN101553750A
• 公開（公告）日: 2009-10-07
• 發明（設計）人: 石井房雄
• 申請（專利權）人: 石井房雄
• 主分類號: G02B26/00
• 分類號: G02B26/00;G03B27/32;G03B27/52;G03B27/58;G03B27/62;G03B27/72;B41J2/47;B41J15/14;B41J27/00;G03C5/00;G02B5/08;G02B26/08;G03B27/42
• 代理公司: 北京天平專利商標代理有限公司
• 代理人: 孫 剛

1.一個用以無縫隙和均勻曝光一曝光區域的光投射設備，該光投射設備包含： 一個具有預定的反射系數變化分布圖樣的微鏡陣列，所述微鏡陣列的微鏡被覆蓋以 不同反射系數的反射覆蓋層以提供所說預定的反射系數變化分布圖樣，用以反射入 射光到上述曝光區域上，以投射一反射光束，該反射光束均勻地、無縫隙地在上述 曝光區域上進行掃描，該光投射設備還包含一個微鏡控制器，該微鏡控制器根據支 撐于一個可變形襯底上的所述曝光區域的變形測量結果，對所述微鏡陣列中的每一 個微鏡進行控制，以完成在所述可變形襯底上的無掩模平版印刷曝光，所述的分布 圖樣是一個反射系數從所述微鏡陣列的邊緣向著中心區域逐漸增加的圖樣。

2.權利要求1的光投射設備，其特征在于：所述微鏡陣列的反射覆蓋層為降 低反射系數的條紋涂層，借此使得所述微鏡陣列中的每一微鏡具有預定的反射系 數，以提供所述預定的反射系數變化分布圖樣。

3.權利要求1的光投射設備，其特征在于：所述微鏡陣列的微鏡被覆蓋以不 同反射系數反射覆蓋層，以提供所述預定的反射系數變化的分布圖樣，其中所述的 微鏡陣列組成一個多邊形的陣列。

4.權利要求2的光投射設備，其特征在于：所述微鏡陣列的微鏡被覆蓋以降 低反射系數的條紋涂層，借此使得所述微鏡陣列中的每一微鏡具有預定的反射系 數，以提供上述預定的反射系數變化分布圖樣，其中所說的微鏡陣列組成一個多邊 形的陣列。

5.權利要求1的光投射設備，其特征在于：所述微鏡陣列的微鏡被覆蓋以不 同反射系數反射覆蓋層，以提供預定的在外圍區域降低反射系數的所述反射系數變 化的分布圖樣，以允許從具有所述降低反射系數的微鏡以及從所述微鏡陣列外圍區 域向微鏡陣列中心區域逐漸增加反射系數的微鏡反射的光的重疊曝光。

6.權利要求2的光投射設備，其特征在于：所述微鏡陣列的微鏡被覆蓋以降 低反射系數的條紋涂層，借此使得所述微鏡陣列中的每一微鏡具有預定的反射系 數，以提供預定的在外圍區域降低反射系數的所述反射系數變化的分布圖樣，以允 許從具有所述降低反射系數的微鏡和從所述微鏡陣列外圍區域向所述微鏡陣列中 心區域逐漸增加反射系數的微鏡反射的光重疊曝光。

7.一個平版印刷掃描設備，該設備包含：一個用以無縫隙地、均勻地投射一 掃描光到一曝光區域上面的光投射裝置；并且所述光投射裝置還包含一個具有預定 的反射系數變化分布圖樣的微鏡陣列，所述微鏡陣列的微鏡涂覆以不同反射系數的 反射層以提供所說預定的反射系數變化的分布圖樣，用來反射入射光到所述曝光區 域上，以在整個曝光區域上進行無縫隙的均勻的反射光掃描，該設備還包含一個根 據支撐于可變形襯底上的曝光區域變形的測量結果來控制所述微鏡陣列中的每一 面微鏡，以在所述可變形襯底上完成無掩模平版印刷曝光的微鏡控制器，所述的分 布圖樣是一個反射系數從所述微鏡陣列的邊緣向著中心區域逐漸增加的圖樣。

8.權利要求7的平版印刷掃描設備，其特征在于：所述微鏡陣列的反射層為 降低反射系數的條紋涂層，借此使得所述微鏡陣列中的每一面微鏡具有預定的反射 系數，以提供所述預定的反射系數變化的分布圖樣。

9.權利要求7的平版印刷掃描設備，其特征在于：所述微鏡陣列的微鏡被涂 覆以不同反射系數的反射層，以提供所說預定的反射系數變化的分布圖樣，其中所 述微鏡陣列組成一個多邊形陣列。

10.權利要求7的平版印刷掃描設備，其特征在于：所述反射層是降低反射 系數的條紋涂層，借此使得所述微鏡陣列中的、每一面微鏡具有預定的反射系數， 以提供所述預定的反射系數變化的分布圖樣，其中所述微鏡陣列組成一個多邊形陣 列。

11.權利要7的平版印刷掃描設備，其特征在于：所述微鏡陣列的微鏡被覆 蓋以不同反射系數的反射層，以提供預定的在外圍區域降低反射系數的反射率變化 的分布圖樣，以允許從具有所述降低反射系數的微鏡和從所述微鏡陣列外圍區域向 所述微鏡陣列中心區域逐漸增加反射系數的微鏡反射的光進行重疊曝光。