[發明專利]壓水核反應堆的主級回路穩壓器用的加熱棒

有效

• 申請號: 200680052312.0
• 申請日: 2006-12-12
• 公開（公告）號: CN101336566A
• 公開（公告）日: 2008-12-31
• 發明（設計）人: F·斯泰特茲朗;M·富科;Y·梅扎爾德;P·斯科特
• 申請（專利權）人: 阿?，m核能公司
• 主分類號: H05B3/82
• 分類號: H05B3/82;G21C1/09
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 余全平

1.加熱棒(28)，其用于壓水核反應堆的主級回路(1)的穩壓器(8)， 這種加熱棒具有金屬外殼(36)和加熱部件(40)，所述金屬外殼(36) 呈縱向延伸形式，具有外表面(62)，所述加熱部件(40)安裝在所述外 殼(36)內，

其特征在于，它具有防腐蝕的保護涂層(60)，該涂層(60)覆蓋所 述外殼(36)的至少一部分外表面(62)；

它具有有效的加熱區域(46)，所述涂層(60)至少沿整個所述有效 的加熱區域(46)縱向延伸；

并且，所述涂層(60)在所述有效的加熱區域(46)的兩側縱向延伸 在一保護距離上。

2.根據權利要求1所述的加熱棒，其特征在于，所述涂層(60)主要 包括鎳。

3.根據權利要求2所述的加熱棒，其特征在于，所述涂層(60)在重 量上具有至少95％的鎳。

4.根據權利要求2或3所述的加熱棒，其特征在于，所述涂層(60) 在鎳鹽浴液中用電解法鍍覆在所述外表面(62)上。

5.根據權利要求1至3中任一項所述的加熱棒，其特征在于，所述涂 層(60)的厚度大于50微米。

6.根據權利要求1所述的加熱棒，其特征在于，所述保護距離大于10 毫米。

7.根據權利要求1至3中任一項所述的加熱棒，其特征在于，所述外 殼(36)用奧氏體不銹鋼制成。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的加熱棒(28)用的金屬外殼(36) 的處理方法，其特征在于，該處理方法具有涂覆涂層(60)的工序：在電 解槽(64)中在所述外殼(36)的至少一部分外表面(62)上涂覆涂層(60)， 所述電解槽(64)包括電解浴液和浸在電解浴液中的電極(74)，所述電 解浴液基本上含有氨基磺酸鎳、氯化鎳和硼酸，所述外殼(36)布置在電 解浴液中，電流保持在所述電極(74)和所述外殼(36)之間。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述電解浴液的pH值 在涂覆工序期間保持在3至5之間。

10.根據權利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述電極(74) 用可溶鎳制成。

11.根據權利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述電流在涂覆 工序期間保持每平方分米的待處理外殼(36)的外表面(62)5安培至50 安培的電流密度。

12.根據權利要求8或9所述的方法，其特征在于，在所述涂覆涂層 (60)的工序之前是初涂工序：在電解槽(64)中在所述外殼(36)的至 少一部分外表面(62)上涂覆一層粘接層，所述電解槽(64)具有電解浴 液和電極(74)，所述電極浸在所述電解浴液中，電解浴液是瓦茨浴液， 其主要具有硫酸鎳、氯化鎳和硼酸，所述外殼(36)布置在電解浴液中， 電流保持在所述電極(74)和所述外殼(36)之間。

13.根據權利要求12所述的方法，其特征在于，所述電解浴液的pH 值在初涂工序期間保持在3至5之間。

14.根據權利要求12或13所述的方法，其特征在于，所述粘接層的 厚度小于10微米。