[發(fā)明專利]亞穩(wěn)態(tài)可溶性硬石膏III的穩(wěn)定化方法、穩(wěn)定化可溶性硬石膏III基水硬性粘結(jié)料的制備方法、得到的水硬性粘結(jié)料、該粘結(jié)料的用途以及實施該方法的工業(yè)設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200680051521.3 | 申請日： | 2006-11-10 |
| 公開（公告）號： | CN101454256A | 公開（公告）日： | 2009-06-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | E·迪穆蘭;C·帕拉西奧斯 | 申請（專利權(quán)）人： | 吉普斯米克斯有限公司 |
| 主分類號： | C04B11/05 | 分類號： | C04B11/05 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務(wù)所 | 代理人： | 張力更 |
| 地址： | 瑞士*** | 國省代碼： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 亞穩(wěn)態(tài) 可溶性 硬石膏 iii 穩(wěn)定 方法 硬性 粘結(jié) 制備 得到 用途 以及 實施 工業(yè) 設(shè)備 | ||
1.亞穩(wěn)態(tài)可溶性硬石膏III的穩(wěn)定化方法，其特征在于，對所 述亞穩(wěn)態(tài)可溶性硬石膏III的顆粒施加機械應(yīng)力，以改變其晶體結(jié)構(gòu) 并穩(wěn)定化其亞穩(wěn)態(tài)相，所述機械應(yīng)力通過使所述顆粒撞擊器壁來施加， 其中使亞穩(wěn)態(tài)可溶性硬石膏III的顆粒以5m/s至30m/s的速度撞擊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述機械應(yīng)力通過將亞穩(wěn)態(tài)可 溶性硬石膏III的顆粒注入撞擊管(4)中來施加，該撞擊管(4)被配 置為當這些顆粒移動時，所述顆粒撞擊其管壁。
3.硬石膏III基水硬性粘結(jié)料的制備方法，其特征在于：
a)加熱硫酸鈣基粉末狀組合物以形成亞穩(wěn)態(tài)可溶性硬石膏III，
b)對該亞穩(wěn)態(tài)可溶性硬石膏III的顆粒施加機械應(yīng)力，以穩(wěn)定 化其亞穩(wěn)態(tài)相，所述機械應(yīng)力通過使所述顆粒撞擊器壁來施加，
其中使亞穩(wěn)態(tài)可溶性硬石膏III的顆粒以5m/s至30m/s的速度 撞擊。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的方法，其中加熱硫酸鈣基粉末狀組合物， 以蒸發(fā)硫酸鈣顆粒中所含的H2O分子，并使所述顆粒破碎。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4之一的方法，其中在400℃至700℃的溫 度下在水蒸氣飽和的氣氛中通過閃蒸方法加熱硫酸鈣基粉末狀組合 物。
6.根據(jù)權(quán)利要求3至4之一的方法，其中通過將粉末狀組合物 注入溫度為400℃至700℃且水蒸氣飽和的熱空氣流中來同時進行步 驟a)和b)，所述熱空氣流經(jīng)過撞擊管(4)，該撞擊管(4)被配置為 當這些顆粒移動時，所述顆粒撞擊其管壁。
7.根據(jù)權(quán)利要求3至4之一的方法，其中對步驟b)后獲得的顆 粒進行熱淬火。
8.根據(jù)權(quán)利要求3至4之一的方法，其中在步驟a)，加熱天然 石膏或合成石膏或半水硫酸鈣基粉末狀組合物。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，其中粉末狀組合物與一種或多種下 列化合物混合：氣硬性石灰、水硬性石灰、生石灰、大理石粉、碳酸 鈣、聚羧酸鹽。
10.含有穩(wěn)定化可溶性硬石膏III的水硬性粘結(jié)料，其特征在于 其由根據(jù)權(quán)利要求3至9之一的方法獲得。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的水硬性粘結(jié)料的用途，用于制備混凝土 或砂漿型材料。
12.用于實施權(quán)利要求3至9之一的方法的工業(yè)設(shè)備，包括加熱 該硫酸鈣基粉末狀組合物并形成亞穩(wěn)態(tài)可溶性硬石膏III的裝置(20， 21，22)，以及對所述顆粒施加機械應(yīng)力以穩(wěn)定化其亞穩(wěn)態(tài)相的裝置(4， 9)，所述亞穩(wěn)態(tài)可溶性硬石膏III的顆粒被注入撞擊管(4)中，該撞 擊管(4)被配置為當這些顆粒移動時，所述顆粒撞擊其管壁，所述管 的入口連接熱空氣發(fā)生器。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的設(shè)備，其中撞擊管(4)為基本上環(huán)形的。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13之一的設(shè)備，其中撞擊管(4)的出 口(41)與用于分離固體顆粒和水蒸氣的裝置(5)連接。
15.根據(jù)權(quán)利要求14的設(shè)備，其中水蒸氣被引向用于回收殘留 細顆粒的過濾器(7)。
16.根據(jù)權(quán)利要求12至13之一的設(shè)備，其中由撞擊管(4)排 出的顆粒被引向與壓縮空氣源相連的第二撞擊管(9)。
17.根據(jù)權(quán)利要求12至13之一的設(shè)備，其中熱淬火裝置被置于 第一撞擊管(4)和/或第二撞擊管(9)的下游。
18.根據(jù)權(quán)利要求12至13之一的設(shè)備，包括增壓裝置，該增壓 裝置被配置為在所述設(shè)備中形成超壓。
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