[發明專利]磁光裝置

無效

• 申請號: 200680050815.4
• 申請日: 2006-12-27
• 公開（公告）號: CN101356470A
• 公開（公告）日: 2009-01-28
• 發明（設計）人: 桂川忠雄
• 申請（專利權）人: 株式會社理光
• 主分類號: G02F1/09
• 分類號: G02F1/09
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 王冉

1.一種磁光裝置，包括：

非磁性支撐體；以及

位于所述非磁性支撐體上的精細粒子布置層，所述精細粒子布置層包括多個規則布置的精細金屬磁性粒子，

其中磁化是通過施加外部磁場到所述精細金屬磁性粒子而產生，且線偏振光被致使入射在所述精細金屬磁性粒子上，使得磁光效應通過所述精細金屬磁性粒子上的所述入射光與所述精細金屬磁性粒子的表面等離子體激元振蕩之間的相互作用而增大。

2.如權利要求1所述的磁光裝置，還包括：

一個或多個導電互連，沿相互垂直的第一方向和第二方向設置于包括所述精細金屬磁性粒子的所述精細粒子布置層附近，

其中所述精細金屬磁性粒子使用通過激勵所述一個或多個導電互連而產生的磁場來磁化；以及

所述磁光效應通過所述激勵的方向和數量而在空間上改變。

3.如權利要求2所述的磁光裝置，還包括：

具有偏振器功能的多個偏振器層，所述偏振器層設置成使得所述導電互連與包括所述精細金屬磁性粒子的所述精細粒子布置層設置于所述偏振器層之間。

4.如權利要求2所述的磁光裝置，還包括：

具有偏振器功能的偏振器層；以及

反射層，

其中所述偏振器層和所述反射層設置成使得所述導電互連與包括所述精細金屬磁性粒子的所述精細粒子布置層設置于所述偏振器層和所述反射層之間。

5.如權利要求1所述的磁光裝置，其中所述精細金屬磁性粒子包括多種類型的磁性金屬。

6.如權利要求1所述的磁光裝置，其中所述精細金屬磁性粒子形成多個層。

7.如權利要求1所述的磁光裝置，其中所述精細金屬磁性粒子直徑變化。

8.如權利要求1所述的磁光裝置，其中所述精細金屬磁性粒子布置成周期為10μm以下的直線。

9.如權利要求1所述的磁光裝置，其中所述精細金屬磁性粒子布置成鏡面非對稱圖案。

10.如權利要求1所述的磁光裝置，其中，除了所述精細金屬磁性粒子之外，所述精細粒子布置層還包括精細非磁性金屬粒子。