[發明專利]制作具有垂直集成電子產品及晶片規模氣密封裝的X-Y軸雙質量塊調諧叉陀螺儀的方法有效
| 申請號: | 200680048919.1 | 申請日: | 2006-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN101663586A | 公開(公告)日: | 2010-03-03 |
| 發明(設計)人: | 史蒂文·S·納西里;約瑟夫·西格;馬丁·利姆;安東尼·弗朗西斯·小弗蘭納里;亞歷山大·卡斯特羅 | 申請(專利權)人: | 因文森斯公司 |
| 主分類號: | G01P3/00 | 分類號: | G01P3/00 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 孟 銳 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制作 具有 垂直 集成 電子產品 晶片 規模 氣密 封裝 質量 調諧 陀螺儀 方法 | ||
1.一種用于測量X-Y傳感器平面中角速度的X及Y分量的雙軸傳感器, 所述雙軸傳感器包括:
第一子傳感器,其用于測量角速度的所述X分量;及
第二子傳感器,其用于測量角速度的所述Y分量,
其中用于測量角速度的所述X分量的所述第一子傳感器及用于測量角速度 的所述Y分量的所述第二子傳感器二者一起被含納于所述雙軸傳感器內的單個 氣密密封內。
2.如權利要求1所述的雙軸傳感器,其中所述第一子傳感器與所述第二子 傳感器由所述單個氣密密封內的勢壘密封分隔開,所述勢壘密封用于減小所述第 一子傳感器與所述第二子傳感器之間的聲耦合。
3.如權利要求2所述的雙軸傳感器,其中所述勢壘密封包含形成于其中的 一個以上溝道以準許所述單個氣密密封內的所述第一子傳感器與所述第二子傳 感器兩者上的壓力均衡。
4.如權利要求1所述的雙軸傳感器,其中所述雙軸傳感器是使用體硅制造 而制造的。
5.如權利要求1所述的雙軸傳感器,其中所述第一子傳感器及所述第二子 傳感器含納于所述雙軸傳感器的矩形空腔內,所述雙軸傳感器進一步包含形成于 所述矩形空腔上方的隔膜。
6.如權利要求5所述的雙軸傳感器,其進一步包括一個以上支柱以支撐所 述空腔中的所述隔膜。
7.如權利要求6所述的雙軸傳感器,其進一步包括一個以上支柱以在所述 空腔內提供錨定件,所述雙軸傳感器的框架懸掛在所述錨定件上。
8.如權利要求6所述的雙軸傳感器,其進一步包括一個以上支柱以支持與 所述雙軸傳感器相關聯的參考晶片的晶片級集成,所述參考晶片形成所述單個氣 密密封的下部部分。
9.如權利要求6所述的雙軸傳感器,其中所述支柱在制造與所述第一子傳 感器及所述第二子傳感器相關聯的機械元件期間提供對所述隔膜的臨時支撐。
10.如權利要求1所述的雙軸傳感器,其進一步包括用于感測模式頻率的應 力隔離特征。
11.如權利要求10所述的雙軸傳感器,其中所述應力隔離特征由一個以上 梁組成。
12.如權利要求1所述的雙軸傳感器,其進一步包括用于制造所述雙軸傳感 器期間的穩健性的應力隔離特征。
13.如權利要求1所述的雙軸傳感器,其中所述雙軸傳感器的感測模式頻率 小于所述雙軸傳感器的驅動模式頻率。
14.如權利要求1所述的雙軸傳感器,其進一步包括框架,所述框架包含一 個以上連接片或凹槽以限制與所述第一子傳感器及所述第二子傳感器相關聯的 機械元件的運動。
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