[發明專利]非晶質硬質碳被膜有效

申請號：	200680048148.6	申請日：	2006-11-28
公開（公告）號：	CN101341274A	公開（公告）日：	2009-01-07
發明（設計）人：	諸貫正樹;松井崇;內海慶春;大原久典	申請（專利權）人：	株式會社理研;日本I·T·F株式會社
主分類號：	C23C14/06	分類號：	C23C14/06;F16C33/10;F16C33/12
代理公司：	永新專利商標代理有限公司	代理人：	陳建全
地址：	日本***	國省代碼：	日本;JP
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摘要：
搜索關鍵詞：	非晶質硬質碳被膜
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【權利要求書】：

1.一種非晶質硬質碳被膜，其特征在于，由在基質材料表面上形成的實際上只包含碳的第1非晶質硬質碳層、和在該第1非晶質硬質碳層的表面上形成的實際上只包含碳的第2非晶質硬質碳層構成；從斷面觀看時，所述第1非晶質硬質碳層的透射型電子顯微鏡像比所述第2非晶質硬質碳層的透射型電子顯微鏡像明亮；所述第1非晶質硬質碳層的厚度為5nm以上70nm以下；所述第2非晶質硬質碳層的厚度為0.5μm以上5.0μm以下。

2.根據權利要求1記載的非晶質硬質碳被膜，其特征在于，所述第1非晶質硬質碳層的密度比所述第2非晶質硬質碳層的密度低。

3.一種非晶質硬質碳被膜，其特征在于，所述非晶質硬質碳被膜是在基質材料表面上形成的實際上只包含碳的非晶質硬質碳被膜，從斷面觀看時的透射型電子顯微鏡像從與所述基質材料的界面向著所述被膜的表面連續變暗。

4.根據權利要求3記載的非晶質硬質碳被膜，其特征在于，所述非晶質硬質碳被膜的密度從所述基質材料界面向著所述被膜的表面連續變高。?

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