[發明專利]清理近場光學掃描裝置的折射元件光學面的方法和用于清理近場光學掃描裝置的折射元件光學面的清理設備無效
| 申請號: | 200680047349.4 | 申請日: | 2006-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN101331545A | 公開(公告)日: | 2008-12-24 |
| 發明(設計)人: | D·M·布魯爾斯;J·M·A·范登伊倫比姆德;F·M·A·M·范加爾 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G11B7/12 | 分類號: | G11B7/12;G11B5/41 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李亞非;劉紅 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 清理 近場 光學 掃描 裝置 折射 元件 方法 用于 設備 | ||
1.一種用于清理近場光學掃描裝置的折射元件的光學面的方法,所述近場光學掃描裝置用于掃描光學記錄載體,該方法包括步驟:
-第一清理步驟,將磁性敏感的清理材料與折射元件的光學面機械接觸。
2.根據權利要求1所述的清理方法,其中所述清理材料是磁性的。
3.根據權利要求1或2所述的清理方法,其中所述清理材料包括軟盤薄片。
4.根據權利要求3所述的清理方法,其中軟盤薄片包括記錄軌道的圖案。
5.根據權利要求3所述的清理方法,包括另外步驟:
-第二清理步驟,相對彼此移動所述清理材料和所述折射元件的光學面。
6.根據權利要求5所述的清理方法,其中軟盤薄片包括記錄軌道的圖案。
7.根據權利要求6所述的清理方法,還包括步驟:
-相對彼此移動所述清理材料和所述折射元件的光學面,以便穿過記錄軌道的圖案拖曳折射元件的光學面。
8.根據權利要求6所述的清理方法,還包括步驟:
-穿過記錄軌道的圖案,相對彼此移動所述清理材料和所述折射元件的光學面,以便折射元件的光學面交替地與所述軟盤薄片的包括記錄軌道的部分和所述軟盤薄片的沒有記錄軌道的部分相接觸。
9.根據權利要求1或2所述的清理方法,包括另外步驟:
-第三清理步驟,相對彼此移動常規清理物質和折射元件的光學面。
10.一種適用于清理用于掃描光學記錄載體的近場光學掃描裝置的折射元件的光學面的清理設備,該清理設備包括清理材料,其特征在于,
所述清理材料是磁性敏感的。
11.根據權利要求10所述的清理設備,其中所述清理材料是磁性的。
12.根據權利要求10所述的清理設備,其中所述清理材料包括軟盤薄片。
13.根據權利要求12所述的清理設備,其中所述軟盤薄片包括記錄軌道的圖案。
14.根據權利要求10所述的清理設備,其中所述清理材料被安裝在柔性載體上。
15.根據權利要求14所述的清理設備,其中所述清理設備還包括清理帶,該清理帶的至少一部分包括所述清理材料。
16.軟盤薄片在清理折射元件的光學面中的使用。
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