[發明專利]具有包含非氟化交聯劑的含氟彈性體抗反射涂層的復合結構無效
| 申請號: | 200680047279.2 | 申請日: | 2006-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN101331409A | 公開(公告)日: | 2008-12-24 |
| 發明(設計)人: | P·G·貝基亞里安;M·佩特魯奇-薩米亞;J·F·賴利 | 申請(專利權)人: | 納幕爾杜邦公司 |
| 主分類號: | G02B1/11 | 分類號: | G02B1/11;C09D5/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 林毅斌;韋欣華 |
| 地址: | 美國特*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 包含 氟化 交聯劑 彈性體 反射 涂層 復合 結構 | ||
1.一種復合結構,所述復合結構包括基底和施加到所述基底的抗 反射涂層,其中所述抗反射涂層包括:
A)具有選自如下的固化部位的含氟彈性體:溴原子、氯原子、 碘原子、非共軛二烯烴和其中兩種或多種的混合物;和
B)非氟化多烯鍵交聯劑。
2.權利要求1的結構,其中所述非氟化多烯鍵交聯劑的通式為 R(OC(O)CR’=CH2)n,
其中R為直鏈或支鏈烷基,或直鏈或支鏈烷基醚,或芳基,或芳 基醚,或雜環;其中R’為H或CH3;且其中n為2-8的整數。
3.權利要求1的結構,其中所述非氟化多烯鍵交聯劑的通式為 R(CH2CR’=CH2)n,
其中R為直鏈或支鏈烷基,或直鏈或支鏈烷基醚,或芳基,或芳 族醚,或芳族酯,或雜環;其中R’為H或CH3;其中n為2-6的整數。
4.權利要求1的結構,其中所述含氟彈性體具有至少一個選自如 下的固化部位:共聚溴化烯烴、氯化烯烴和碘化烯烴。
5.權利要求1的結構,其中所述含氟彈性體具有至少一個選自如 下的固化部位:共聚溴化不飽和醚、氯化不飽和醚和碘化不飽和醚。
6.權利要求1的結構,其中所述含氟彈性體具有至少一個選自共 聚非共軛二烯烴的固化部位。
7.權利要求1的結構,其中至少一個固化部位選自:含氟彈性體 鏈末端上的碘原子、溴原子及其混合物。
8.權利要求1的結構,其中所述含氟彈性體為包含偏二氟乙烯共 聚單元的共聚物。
9.權利要求1的結構,其中所述含氟彈性體為包含四氟乙烯共聚 單元的共聚物。
10.權利要求1的結構,其中所述含氟彈性體為包含全氟(烷基 乙烯基醚)共聚單元的共聚物。
11.權利要求1的結構,所述結構還包含有機過氧化物。
12.權利要求1的結構,所述結構還包含有機光引發劑。
13.權利要求2的結構,其中所述非氟化多烯鍵交聯劑具有下 式:
14.權利要求3的結構,其中所述非氟化多烯鍵交聯劑具有下 式:
15.權利要求3的結構,其中所述非氟化多烯鍵交聯劑具有下 式:
16.權利要求3的結構,其中所述非氟化多烯鍵交聯劑具有下 式:
17.權利要求2的結構,其中所述非氟化多烯鍵交聯劑具有下 式:
18.權利要求2的結構,其中所述非氟化多烯鍵交聯劑具有下 式:
19.權利要求2的結構,其中所述非氟化多烯鍵交聯劑具有下 式:
20.權利要求2的結構,其中所述非氟化多烯鍵交聯劑具有下 式:
21.權利要求1的結構,其中所述基底包括透明材料。
22.權利要求21的結構,其中所述結構的鏡面反射率為1.3% 以下。
23.權利要求1的結構,其中所述基底包含防眩光材料。
24.權利要求23的結構,其中所述結構的全反射率為2.5%以 下。
25.權利要求1的結構,其中用鋼絲絨摩擦后反射率變化小于 或等于0.5%。
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