[發明專利]密封的電潤濕設備有效
| 申請號: | 200680046772.2 | 申請日: | 2006-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN101331412A | 公開(公告)日: | 2008-12-24 |
| 發明(設計)人: | F·洛納;M·斯坦普爾;S·魯 | 申請(專利權)人: | 瓦里奧普蒂克公司 |
| 主分類號: | G02B3/14 | 分類號: | G02B3/14;G02B26/02 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 劉興鵬;邵偉 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 密封 潤濕 設備 | ||
1.一種電潤濕設備,包括:限定通過電潤濕可移動的界面的第一和第二非互溶液體(500、502),液體被密封于結構內,該結構包括:
頂蓋部分(202);
基座部分(206);
由第一材料形成的墊圈(204),其定位于所述頂蓋部分上的第一接觸表面(222、224)和所述基座部分上的第二接觸表面(250、252)之間;以及其中
所述墊圈(204)由聚合物材料構成,具有使用D型硬度計測量的40至70的范圍內的肖氏硬度(D),并且
該結構還包括第一膜(400、402、404、406)和第二膜,所述第一膜由應用于所述墊圈(204)的第一側和所述第一接觸表面(222、224)中的至少一個的聚合物涂層形成,并且所述第二膜由應用于所述墊圈的第二側和所述第二接觸表面(250、252)中的至少一個的聚合物涂層形成,其中所述聚合物涂層包括氟化的彈性體,具有使用A型硬度計測量的20至40的范圍內的肖氏硬度(A)。
2.權利要求1的電潤濕設備,其中所述氟化的彈性體包括具有帶末端聚硅氧烷交聯基團的全氟聚醚骨架。
3.權利要求1的電潤濕設備,其中所述第一材料由非彈性體組成。
4.權利要求1的電潤濕設備,其中所述墊圈(204)由PTFE形成。
5.權利要求1的電潤濕設備,其中所述頂蓋部分(202)被卷曲以使得其固定至所述基座部分。
6.權利要求1的電潤濕設備,其中所述墊圈(204)為環形形狀并且為基本上“L”形橫截面。
7.一種包含第一和第二非互溶液體(500、502)的電潤濕設備的制造方法,該方法包括:
提供具有第一接觸表面(222、224)的頂蓋部分(202)、具有第二接觸表面(250、252)的基座部分(206)以及由第一材料(204)形成的墊圈,所述墊圈具有使用D型硬度計測量的40至70的范圍內的肖氏硬度(D),并且所述墊圈具有用來與所述第一接觸表面接觸的第一側以及用來與所述第二表面接觸的第二側;
形成至少第一膜(400、402)和第二膜,所述第一膜由應用于所述墊圈(204)的第一側和所述第一接觸表面(222、224)中的至少一個的聚合物涂層形成,并且所述第二膜由應用于所述墊圈的第二側和所述第二接觸表面(250、252)中的至少一個的聚合物涂層形成,其中所述聚合物涂層包括氟化的彈性體,具有使用A型硬度計測量的20至40的范圍內的肖氏硬度(A);
將所述墊圈定位于所述頂蓋部分和所述基座部分之間,并且將所述第一和第二液體定位于所述基座和頂蓋部分之間;以及
施加適量的壓力以使得所述墊圈和所述第一膜被充分地壓縮,以在所述頂蓋部分和所述基座部分之間產生用來將所述第一和第二液體密封于內部的密封。
8.權利要求7的方法,其中所述至少第一膜(400、402、404、406)通過應用用溶劑稀釋的聚合物形成。
9.權利要求7的方法,其中所述施加壓力的步驟包括卷曲所述頂蓋部分(202)以使得其固定至基座部分(206)。
10.一種可變焦透鏡,包括:第一和第二非互溶液體(500、502),其具有不同的折射指數,限定通過電潤濕可移動的光線聚焦界面,液體密封于結構內,該結構包括:
頂蓋部分(202);
基座部分(206);
由第一材料形成的墊圈(204),其定位于所述頂蓋部分上的第一接觸表面(222、224)和所述基座部分上的第二接觸表面(250、252)之間;以及其中
所述墊圈(204)由聚合物材料構成,具有使用D型硬度計測量的40至70的范圍內的肖氏硬度(D),并且
該結構還包括第一膜(400、402、404、406)和第二膜,所述第一膜由應用于所述墊圈(204)的第一側和所述第一接觸表面(222、224)中的至少一個的聚合物涂層形成,并且所述第二膜由應用于所述墊圈的第二側和所述第二接觸表面(250、252)中的至少一個的聚合物涂層形成,其中所述聚合物涂層包括氟化的彈性體,具有使用A型硬度計測量的20至40的范圍內的肖氏硬度(A)。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于瓦里奧普蒂克公司,未經瓦里奧普蒂克公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200680046772.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:具有改進的砧座打開元件的外科縫合和切割器械
- 下一篇:雙面的自清潔機構





