[發明專利]在流體聚焦透鏡中避免溶液流無效
| 申請號: | 200680046735.1 | 申請日: | 2006-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN101331411A | 公開(公告)日: | 2008-12-24 |
| 發明(設計)人: | R·M·蒂伯格;A·L·鮑坎普-威諾爾茨;T·R·格羅布;G·J·弗霍克克斯;P·范德米爾 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B3/14 | 分類號: | G02B3/14;G02B26/02 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李亞非;劉紅 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 流體 聚焦 透鏡 避免 溶液 | ||
1.一種電潤濕單元,所述電潤濕單元包括基板(106、206、306、406)、結構(108、208、308、408)和疏水材料制成的第一層(115、215、315、415),所述結構(108、208、308、408)基本上將電潤濕流體(102、202、302、402)限制到所述基板(106、206、306、406)的表面,所述第一層(115、215、315、415)在所述基板(106、206、306、406)上并位于所述基板(106、206、306、406)與所述結構(108、208、308、408)之間。
2.如權利要求1所述的電潤濕單元,其特征在于:所述結構(108、206)包括中空圓柱體。
3.如權利要求1所述的電潤濕單元,其特征在于:所述結構(308、408)包括環。
4.如權利要求1所述的電潤濕單元,其特征在于:疏水流體接觸層(110、310、410)處于所述結構(108、308、408)的一部分上。
5.如權利要求4所述的電潤濕單元,其特征在于:所述疏水流體接觸層(110、310、410)的一部分鄰接于所述疏水材料制成的第一層(115、315、415)的至少一部分。
6.如權利要求1所述的電潤濕單元,其特征在于:所述疏水材料制成的第一層(115、215、315、415)包括一種材料,所述材料是氟硅烷或無定形碳氟化合物聚合物。
7.一種流體聚集透鏡,所述流體聚集透鏡包括:
流體室(205),所述流體室(205)由前蓋板(204)、后蓋板(206)和包圍一種空間的芯(208)形成,所述流體室(205)包括第一流體(201)和軸向布置的第二流體(202),這些流體(201、202)非混溶并在彎月面(214)上方接觸;
疏水層(215),所述疏水層(215)布置在所述后蓋板(206)上,所述后蓋板(206)在與所述芯(208)的表面相對的區域上。
8.如權利要求7所述的流體聚集透鏡,其特征在于:所述疏水層(215)僅在所述疏水層(215)的邊緣與所述第二流體(202)接觸。
9.一種制造電潤濕單元的方法,所述方法包括:
提供基板(406);
在所述基板(406)的第一區域上提供疏水層(415),將所述第一區域的形狀確定為對應于一種結構(108、208、308、408)的接觸表面的至少一部分,所述結構(108、208、308、408)包圍一種空間;
將電潤濕流體(402)置于所述基板(406)的第二區域上;以及
將所述結構(108、208、308、408)置于所述基板上,所述接觸表面接觸所述第一區域和所述空間的至少一部分,并因此而包括所述第二區域。
10.如權利要求9所述的方法,其特征在于:所述結構(108、208、308、408)在所述基板(406)上的所述放置步驟在所述電潤濕流體(402)在所述基板(406)的所述第二區域上的所述放置之后進行。
11.如權利要求9所述的方法,其特征在于:所述結構(108、208、308、408)在所述基板(406)上的所述放置步驟在所述電潤濕流體(402)在所述基板(406)的所述第二區域上的所述放置之前進行。
12.如權利要求9所述的方法,其特征在于:包括提供親水基板(406)的步驟。
13.如權利要求9所述的方法,其特征在于:所述親水基板(406)是玻璃。
14.如權利要求9所述的方法,其特征在于:所述提供疏水層(415)的步驟包括將疏水材料置于所述基板(406)的表面上并將所述疏水材料從所述表面的一部分上去除的步驟。
15.如權利要求9所述的方法,其特征在于:所述疏水層(415)包括無定形碳氟化合物聚合物。
16.如權利要求9所述的方法,其特征在于:所述疏水層(415)包括氟硅烷。
17.如權利要求9所述的方法,其特征在于:所述結構(108、208、308、408)具有疏水流體接觸層(110、310、410),且所述疏水流體接觸層(110、310、410)處于所述接觸表面的至少一部分上。
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