[發(fā)明專利]磨粒材料和用該磨粒材料對(duì)工件平面化的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680046368.5 | 申請(qǐng)日: | 2006-10-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101370896A | 公開(公告)日: | 2009-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | A·G·赫爾勒;王浚 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C09K3/14 | 分類號(hào): | C09K3/14;C09G1/02;C01F7/02 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 陳哲鋒 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 材料 工件 平面化 方法 | ||
1.一種磨粒材料,包含:
氧化鋁顆粒,所述氧化鋁顆粒包含過渡型氧化鋁和至少5.0重量%的非晶 相,所述氧化鋁顆粒包括不小于20重量%的γ相氧化鋁,所述氧化鋁顆粒的密 度不大于3.00g/cm3。
2.如權(quán)利要求1所述的磨粒材料,其特征在于,所述過渡型氧化鋁包含γ 相氧化鋁和δ相氧化鋁中的至少一種。
3.如權(quán)利要求2所述的磨粒材料,其特征在于,所述過渡型氧化鋁包含δ 相氧化鋁。
4.如權(quán)利要求1所述的磨粒材料,其特征在于,所述過渡型氧化鋁包含θ 相氧化鋁。
5.如權(quán)利要求4所述的磨粒材料,其特征在于,所述氧化鋁顆粒包含不 小于5重量%的θ相氧化鋁。
6.如權(quán)利要求1所述的磨粒材料,其特征在于,所述氧化鋁顆粒包含不 小于10重量%的非晶相。
7.如權(quán)利要求1所述的磨粒材料,其特征在于,所述氧化鋁顆粒包含不 小于5.0重量%的非晶相和不大于40重量%的非晶相,余量的顆粒主要由過渡 型氧化鋁組成。
8.如權(quán)利要求1所述的磨粒材料,其特征在于,所述氧化鋁顆粒的比表 面積不小于100m2/g。
9.如權(quán)利要求1所述的磨粒材料,其特征在于,所述氧化鋁顆粒是小片 形,其初級(jí)長(zhǎng)寬比不小于3∶1,次級(jí)長(zhǎng)寬比不小于3∶1。
10.如權(quán)利要求1所述的磨粒材料,其特征在于,所述氧化鋁顆粒為針形, 其初級(jí)長(zhǎng)寬比不小于3∶1,次級(jí)長(zhǎng)寬比不大于3∶1。
11.如權(quán)利要求1所述的磨粒材料,其特征在于,所述氧化鋁顆粒的平均 初級(jí)粒度不大于85納米。
12.如權(quán)利要求1所述的磨粒材料,其特征在于,所述氧化鋁顆粒的平均 次級(jí)粒度不大于200納米。
13.如權(quán)利要求12所述的磨粒材料,其特征在于,所述平均次級(jí)粒度不 大于150納米。
14.如權(quán)利要求1所述的磨粒材料,其特征在于,所述磨粒材料包括漿料。
15.如權(quán)利要求14所述的磨粒材料,其特征在于,所述漿料的膠體穩(wěn)定 性按照沉降高度測(cè)定,3天后沉降高度為0.0毫米。
16.如權(quán)利要求15所述的磨粒材料,其特征在于,所述漿料的膠體穩(wěn)定 性按照沉降高度測(cè)定,6天后沉降高度為0.0毫米。
17.一種形成磨粒材料的方法,該方法包括:
提供主要包含過渡型氧化鋁的原料顆粒;
對(duì)原料顆粒進(jìn)行碾磨,形成包含過渡型氧化鋁和不小于5.0重量%的非晶 相的氧化鋁顆粒,所述氧化鋁顆粒包括不小于20重量%的γ相氧化鋁,該氧 化鋁顆粒的密度不大于3.00g/cm3。
18.如權(quán)利要求17所述的方法,其特征在于,所述碾磨步驟包括在pH小 于5.0的酸性溶液中進(jìn)行濕碾磨。
19.如權(quán)利要求18所述的方法,其特征在于,所述濕碾磨包括對(duì)過渡型 氧化鋁顆粒進(jìn)行碾磨至平均次級(jí)粒度不大于200納米。
20.如權(quán)利要求17所述的方法,其特征在于,所述方法還包括對(duì)含鋁材 料進(jìn)行煅燒,提供原料顆粒,其中所述對(duì)含鋁材料進(jìn)行煅燒的步驟包括加熱含 鋁材料加熱至一定溫度,該溫度足以使含鋁材料轉(zhuǎn)化為主要包含過渡型氧化鋁 的原料顆粒。
21.如權(quán)利要求20所述的方法,其特征在于,所述煅燒步驟在不大于1250 ℃的溫度進(jìn)行。
22.如權(quán)利要求17所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:對(duì)氧化 鋁顆粒進(jìn)行干燥,形成干氧化鋁粉;將干氧化鋁粉分散在溶劑中,形成磨料漿。
23.一種對(duì)工件的導(dǎo)電金屬表面進(jìn)行拋光的方法,該方法包括:
在工件和用于拋光的壓板之間提供磨料漿,所述磨料漿包含溶劑和氧化鋁 顆粒,所述氧化鋁顆粒包含過渡型氧化鋁和不小于5重量%的非晶相,所述氧 化鋁顆粒包括不小于20重量%的γ相氧化鋁,其中氧化鋁顆粒的密度不大于 3.00g/cm3;
使壓板和工件做相對(duì)平移。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司,未經(jīng)圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200680046368.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:雙向噴水泵無觸點(diǎn)控制電路
- 下一篇:發(fā)電機(jī)
- 半導(dǎo)體器件及其制造方法
- 形成電極或像素電極的方法和一種液晶顯示設(shè)備
- 用于高級(jí)微電子應(yīng)用的平面化薄膜及其生產(chǎn)裝置和方法
- 三層抗蝕劑有機(jī)層蝕刻
- 投射陰影的自動(dòng)陷印
- 復(fù)雜結(jié)構(gòu)對(duì)象轉(zhuǎn)換成平面化數(shù)據(jù)的方法、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 適用于使用在光電裝置中的層系統(tǒng)以及用于以連續(xù)卷繞式工藝制造層系統(tǒng)的方法
- 柔性有機(jī)發(fā)光二極管顯示器及其制作方法
- 平面化腐蝕半導(dǎo)體器件的方法
- 半導(dǎo)體器件的金屬化
- 一種數(shù)據(jù)庫讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





