[發明專利]相位差膜、相位差膜的制造方法、偏振片以及液晶顯示裝置

有效

• 申請號: 200680045629.1
• 申請日: 2006-11-28
• 公開（公告）號: CN101322055A
• 公開（公告）日: 2008-12-10
• 發明（設計）人: 稻垣真治;齋藤浩一;高木隆裕
• 申請（專利權）人: 柯尼卡美能達精密光學株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13363
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 張平元;鄭樹槐

1.一種相位差膜的制造方法，其是通過拉幅拉伸方法對連續傳送的薄 膜進行拉伸的相位差膜的制造方法，其中包括如下工序：第1工序：用把持 工具至少把持薄膜寬度方向兩端部，然后擴大該把持工具的間隔，將薄膜在 橫向上拉伸；第2工序：在用把持工具把持薄膜寬度方向兩端部的狀態下， 在橫向上縮小把持工具的間隔；以及第3工序：在用把持工具把持薄膜寬度 方向兩端部的狀態下，再次擴大該把持工具的間隔，將薄膜在橫向上拉伸，

上述第1工序的拉伸倍率為1.01～1.10倍，上述第2工序的拉伸倍率相 對于上述第1工序拉伸后的薄膜寬度為0.90～0.99倍，上述第3工序的拉伸 倍率相對于上述第2工序結束后的薄膜寬度為1.05～2.0倍，并且在第3工序 結束后，在用把持工具把持薄膜寬度方向兩端部的狀態下縮小把持工具的間 隔。

2.權利要求1所述的相位差膜的制造方法，其中，上述第1工序的拉 伸不超過薄膜的屈服點。

3.權利要求1所述的相位差膜的制造方法，其中，上述相位差膜是纖 維素酯薄膜。

4.權利要求1所述的相位差膜的制造方法，其中，上述相位差膜的膜 厚為20～60μm。

5.權利要求1所述的相位差膜的制造方法，其中，上述相位差膜在 589nm波長處的面內相位差值Ro為30～100nm，厚度方向的相位差值Rt為 70～300nm。

6.權利要求5所述的相位差膜的制造方法，其中，上述相位差膜的相 位差值比Rt/Ro為2～5的范圍。

7.權利要求1所述的相位差膜的制造方法，其中，由上述相位差膜形 成的正面對比度為900～1000的范圍。

8.一種相位差膜，其是通過權利要求1～7中任一項所述的相位差膜的 制造方法制造而得到的。

9.一種偏振片，其中，在起偏器的至少一面貼合了權利要求8所述的 相位差膜。

10.一種液晶顯示裝置，其中使用了權利要求9所述的偏振片。