[發明專利]冷卻元件及其制造方法

有效

• 申請號: 200680045144.2
• 申請日: 2006-11-23
• 公開（公告）號: CN101322003A
• 公開（公告）日: 2008-12-10
• 發明（設計）人: K·賽佩萊;J·科伊托;R·薩里南
• 申請（專利權）人: 奧圖泰有限公司
• 主分類號: F27D1/12
• 分類號: F27D1/12;B22D19/00;C21B7/10
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 林振波

1.一種在用于制造金屬的火法冶金反應器結構中使用的冷卻元件(1)，該冷卻元件包括主要由銅制成的殼體元件(2)，該殼體元件具有用于冷卻介質循環的通道系統，該通道系統由主要由銅制成的管(3)組成，其特征在于，在形成通道系統的管(3)的外表面上設置有涂層(7，A)，該涂層的熔點比殼體元件(2)和管(3，B)的材料的熔點更低，其中，涂層(7，A)是銅與至少一種降低其熔點的組分組成的合金。

2.如權利要求1所述的冷卻元件，其特征在于，涂層(7，A)是銅與錫和/或銀的合金。

3.如權利要求1所述的冷卻元件，其特征在于，涂層(7，A)是含有10％錫的銅。

4.如權利要求1所述的冷卻元件，其特征在于，涂層(7，A)是含有10％銀的銅。

5.如權利要求1所述的冷卻元件，其特征在于，涂層(7，A)是銅、鉛和錫的合金。

6.如權利要求1至5中任何一項所述的冷卻元件，其特征在于，涂層(7，A)的厚度是0.1-1毫米。

7.一種制造在用于制造金屬的火法冶金反應器結構中使用的冷卻元件(1)的方法，該冷卻元件包括主要由銅制成的殼體元件(2)，該殼體元件具有用于冷卻介質循環的通道系統，該通道系統由主要由銅制成的管(3)組成，在該方法中，冷卻元件的殼體元件(2)圍繞管(3)鑄造，并且冷卻介質在管中循環，其特征在于，在鑄造冷卻元件之前，在管的外表面上涂覆涂層(7，A)，該涂層的熔點比殼體元件(2)和管(3，B)的材料的熔點低，其中，所用的涂層(7，A)是銅與至少一種降低其熔點的組分組成的合金。

8.如權利要求7所述的方法，其特征在于，在冷卻元件的殼體元件(2)的鑄造期間，管由冷卻介質來冷卻，使得涂層(7，A)和管之間的接觸表面(K)保持為固態。

9.如權利要求7或8所述的方法，其特征在于，當殼體元件(2)凝固時，停止管(3)中冷卻介質的循環。

10.如權利要求7或8所述的方法，其特征在于，通過熔融涂布來形成該涂層(7，A)。

11.如權利要求7或8所述的方法，其特征在于，通過電解涂布來形成該涂層(7，A)。

12.如權利要求7或8所述的方法，其特征在于，通過熱噴涂工藝來形成該涂層(7，A)。

13.如權利要求7或8所述的方法，其特征在于，所用的涂層(7，A)是銅與錫和/或銀的合金。

14.如權利要求7或8所述的方法，其特征在于，所用的涂層(7，A)是銅與10％錫的合金。

15.如權利要求7或8所述的方法，其特征在于，所用的涂層(7，A)是銅與10％銀的合金。

16.如權利要求7或8所述的方法，其特征在于，所用的涂層(7，A)是銅、鉛和錫的合金。

17.如權利要求7或8所述的方法，其特征在于，冷卻元件(1)是包圍用于放出熔融物的放出口(6)的包圍元件，在這種情況下，至少部分冷卻元件布置成基本上包圍該放出口。