[發明專利]中空二氧化硅微粒、含有該微粒的透明涂膜形成用組合物、及覆有透明涂膜的基材

有效

• 申請號: 200680043928.1
• 申請日: 2006-11-17
• 公開（公告）號: CN101312909A
• 公開（公告）日: 2008-11-26
• 發明（設計）人: 末吉亮太;村口良;松田政幸;熊澤光章;平井俊晴
• 申請（專利權）人: 觸媒化成工業株式會社
• 主分類號: C01B33/18
• 分類號: C01B33/18;C09D7/12;C09D201/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所
• 代理人: 楊宏軍

1.一種中空二氧化硅微粒，所述中空二氧化硅微粒通過動態光散射 法測定的平均粒徑為5～300nm，比表面積為50～1500m²/g，外殼的內部 形成空洞，其特征在于，通過進行熱重量測定TG，在200℃～500℃的溫 度范圍內顯示出1.0重量％以上的重量減少，并且在200℃～500℃的溫度 范圍內在差熱分析測定DTA中具有正的DTA峰。

2.如權利要求1所述的中空二氧化硅微粒，其特征在于，所述中空 二氧化硅微粒在其表面具有與硅原子直接結合的有機基團。

3.如權利要求2所述的中空二氧化硅微粒，其特征在于，所述有機 基團為選自飽和或不飽和的碳原子數1～18的烴基、碳原子數1～18的鹵 代烴基中的1種以上基團。

4.如權利要求3所述的中空二氧化硅微粒，其特征在于，所述中空 二氧化硅微粒具有下述通式(1)或通式(2)表示的有機基團，通過進 行熱重量測定TG，在200℃～500℃的溫度范圍內顯示出1.5重量％以上 的重量減少，

通式(1)：-R-OC(＝O)CCH₃＝CH₂

其中，R為碳原子數1～12的2價烴基，

通式(2)：-R-OC(＝O)CH＝CH₂

其中，R為碳原子數1～12的2價烴基。

5.如權利要求3所述的中空二氧化硅微粒，其特征在于，所述中空 二氧化硅微粒具有下述通式(3)表示的有機基團，

通式(3)：-R-C_nF_aH_b

其中，a+b＝2n+1，n為1～3的整數，R為碳原子數1～12的2價烴 基。

6.權利要求1～3中任一項所述的中空二氧化硅微粒的制造方法，其 特征在于，配制中空二氧化硅微粒分散的二氧化硅濃度為1～70重量％ 的有機溶膠，在30℃～300℃的溫度范圍內，向該有機溶膠中加入硅烷 化合物及堿催化劑，在相對于二氧化硅配合量水分量為0.1～50重量％的 條件下，使該硅烷化合物和該中空二氧化硅微粒反應，所述硅烷化合物 的添加量相對于100重量份所述中空二氧化硅微粒在1～50重量份的范 圍內，所述堿催化劑的添加量相對于所述有機溶膠在20～2,000ppm的范 圍內。

7.一種透明涂膜形成用組合物，其特征在于，含有權利要求1～3 中任一項所述的中空二氧化硅微粒和粘合劑。

8.如權利要求7所述的透明涂膜形成用組合物，其特征在于，所述 透明涂膜形成用組合物中所含的所述中空二氧化硅微粒的表面電荷量 Q_A在5～20μeq/g的范圍內。

9.如權利要求8所述的透明涂膜形成用組合物，其特征在于，所述 透明涂膜形成用組合物中含有的所述中空二氧化硅微粒的濃度C_PA為 0.1～20重量％，作為粘合劑的固態成分的濃度C_M為1～50重量％的范圍 內，溶劑為極性溶劑。

10.如權利要求7所述的透明涂膜形成用組合物，其特征在于，所述 透明涂膜形成用組合物含有表面電荷量Q_A在5～20μeq/g的范圍內的中 空二氧化硅微粒，并且含有表面電荷量Q_B在51～150μeq/g的范圍內的 金屬氧化物微粒，該金屬氧化物微粒的表面電荷量Q_B和該中空二氧化硅 微粒的表面電荷量Q_A之差[Q_B-Q_A]的值在20～100μeq/g的范圍內。

11.如權利要求10所述的透明涂膜形成用組合物，其特征在于，所 述透明涂膜形成用組合物中含有的所述中空二氧化硅微粒的濃度C_PA在 0.1～20重量％的范圍內，所述金屬氧化物微粒的濃度C_PB在0.1～20重量 ％的范圍內，作為粘合劑的固態成分的濃度C_M在1～50重量％的范圍內， 溶劑為極性溶劑。