[發(fā)明專利]用于小裝置的保護(hù)隔層

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680043195.1
• 申請(qǐng)日: 2006-09-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101313128A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 克里斯多夫·哈里森;奧利弗·C·穆林斯;奧利維爾·凡高文伯基;艾里克·P·冬塞爾;知見(jiàn)寺明人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 普拉德研究及開(kāi)發(fā)股份有限公司
• 主分類號(hào): E21B47/10
• 分類號(hào): E21B47/10;E21B47/01;E21B49/10
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 王新華

1.一種井下流體分析系統(tǒng)，包括：

小裝置，所述小裝置適于井下使用，以測(cè)量與所述小裝置接觸的流動(dòng) 流體的性能，其中，所述小裝置為由基片材料微機(jī)械加工的集成裝置；以 及

保護(hù)隔層，所述保護(hù)隔層用于針對(duì)流體保護(hù)所述小裝置，其中所述保 護(hù)隔層包括在所述小裝置上的兩層或多于兩層的涂層，且

所述保護(hù)隔層至少包括氧化鉭的第一層以及氮化鈦的第二層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的井下流體分析系統(tǒng)，其中

氧化鉭層防止腐蝕，而氮化鈦層防止侵蝕，且氮化鈦層在氧化鉭層上 方。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的井下流體分析系統(tǒng)，其中

所述保護(hù)隔層進(jìn)一步包括：

在氮化鈦層上方的防粘附層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的井下流體分析系統(tǒng)，其中

所述保護(hù)隔層進(jìn)一步包括：

作為小裝置上的外層的防粘附層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的井下流體分析系統(tǒng)，進(jìn)一步包括擋板裝置， 所述擋板裝置將載有微粒的流動(dòng)偏轉(zhuǎn)以遠(yuǎn)離所述小裝置。

6.一種井下流體分析系統(tǒng)，包括：

小裝置，所述小裝置適于井下使用，以測(cè)量與所述小裝置接觸的流動(dòng) 流體的性能，其中，所述小裝置為由基片材料微機(jī)械加工的集成裝置；以 及

保護(hù)隔層，所述保護(hù)隔層用于針對(duì)流體保護(hù)所述小裝置，其中所述保 護(hù)隔層包括擋板裝置，所述擋板裝置將載有微粒的流動(dòng)偏轉(zhuǎn)以遠(yuǎn)離所述小 裝置，且其中所述保護(hù)隔層進(jìn)一步包括：

在所述小裝置上用于防止所述小裝置腐蝕的氧化鉭層和在所述小裝 置上用于防止所述小裝置侵蝕的氮化鈦層，且所述氮化鈦層在所述氧化鉭 層上方。

7.一種利用微機(jī)電系統(tǒng)裝置感測(cè)井下流體的方法，所述微機(jī)電系統(tǒng) 裝置具有彎曲板，所述方法包括如下步驟：

在適于在高溫和高壓條件下測(cè)量流體性質(zhì)的井下的微機(jī)電系統(tǒng)裝置 與井眼中的地下地層流體之間建立流體連通；

通過(guò)在所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置上濺射氧化鉭的涂層，提供涂覆在井下的 所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置上的第一保護(hù)隔層，所述第一保護(hù)隔層用于防止井下 的所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置被地層流體腐蝕；

提供涂覆在井下的所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置上的第二保護(hù)隔層，用于防止 井下的所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置被地層流體侵蝕；以及

將地下地層流體環(huán)繞所述彎曲板，使得當(dāng)彎曲板被驅(qū)動(dòng)時(shí)，所述彎曲 板振動(dòng)并使地下地層流體移動(dòng)。

8.一種利用彎曲板微機(jī)電系統(tǒng)裝置感測(cè)井下流體的方法，所述彎曲 板微機(jī)電系統(tǒng)裝置具有平面件，所述平面件具有沿一側(cè)連接到其上的彎曲 板，所述方法包括如下步驟：

在適于在高溫和高壓條件下測(cè)量流體性質(zhì)的井下的微機(jī)電系統(tǒng)裝置 與井眼中的地下地層流體之間建立流體連通；

提供涂覆在井下的所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置上的第一保護(hù)隔層，所述第一 保護(hù)隔層用于防止井下的所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置被地層流體腐蝕；

通過(guò)在所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置上等離子氣相沉積氮化鈦涂層，提供涂覆 在井下的所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置上的第二保護(hù)隔層，用于防止井下的所述微 機(jī)電系統(tǒng)裝置被地層流體侵蝕；以及

將地下地層流體環(huán)繞所述彎曲板，使得當(dāng)彎曲板被驅(qū)動(dòng)時(shí)，所述彎曲 板振動(dòng)并使地下地層流體移動(dòng)。

9.一種適于感測(cè)井下流體的微機(jī)電系統(tǒng)裝置，適于井下使用，用于 測(cè)量與所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置接觸的流動(dòng)流體的性質(zhì)，所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置 制造在平面件上，其中：

在所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置上設(shè)置有用于防止所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置被井 下流體腐蝕的第一保護(hù)涂層以及用于防止所述微機(jī)電系統(tǒng)裝置被井下流 體侵蝕的第二保護(hù)涂層中的至少一個(gè)涂層，所述第一保護(hù)涂層和所述第二 保護(hù)涂層中的所述至少一個(gè)涂層的涂層厚度在0.01微米到100微米的范圍 之內(nèi)，且所述涂層包括鈦的氧化物、碳化物和氮化物中的至少一種。