[發(fā)明專利]包括經(jīng)過表面處理的金屬氧化物顆粒的電介質媒質有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200680043065.8 | 申請日: | 2006-11-14 |
| 公開(公告)號: | CN101310368A | 公開(公告)日: | 2008-11-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 馬克·E·納皮耶臘拉 | 申請(專利權)人: | 3M創(chuàng)新有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/31 | 分類號: | H01L21/31;H01L21/8242;H01L27/108;H01L29/786 |
| 代理公司: | 中原信達知識產(chǎn)權代理有限責任公司 | 代理人: | 郇春艷;郭國清 |
| 地址: | 美國明*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 包括 經(jīng)過 表面 處理 金屬 氧化物 顆粒 電介質 媒質 | ||
1.一種電子器件,其包括至少一個導電電極和鄰近所述電極的電介質層;其中所述電介質層包含聚合物基質以及分散在所述聚合物基質中的金屬氧化物顆粒;其中所述金屬氧化物顆粒具有與它們的表面共價鍵合的有機官能團,并且其中所述有機官能團未與所述聚合物基質共價鍵合。
2.根據(jù)權利要求1所述的電子器件,其中用于形成所述金屬氧化物顆粒的金屬選自由下列物質組成的組:Ti、Y、Zr和Hf。
3.根據(jù)權利要求1所述的電子器件,其中用于形成所述金屬氧化物顆粒的金屬包括Ti。
4.根據(jù)權利要求1所述的電子器件,其中所述有機官能團的分子量是1000或以下,并且符合以下化學式:
(-O-)xQ(-O-R1)y(-CH2-R2)??(I)
其中Q為Si或P=O;
其中每個R1均獨立地選自由下列物質組成的組:氫、烷基和取代的烷基;
其中每個R2均獨立地選自由下列物質組成的組:氫、烷基、取代的烷基、烷氧基、取代的烷氧基;
其中當Q為Si時,x為1至3,y為0至2,和x+y=3;
其中當Q為P=O時,x為1至2,y為0至1,和x+y=2;并且
其中開氧鍵與所述金屬氧化物顆粒的表面共價鍵合。
5.根據(jù)權利要求4所述的電子器件,其中Q為Si。?
6.根據(jù)權利要求5所述的電子器件,其中:
每個R1均獨立地選自由下列物質組成的組:甲基和乙基;并且R2為-CH2-(O-CH2-CH2-)z-OCH3,其中z為1至19。
7.根據(jù)權利要求4所述的電子器件,其中Q為P=O。
8.根據(jù)權利要求1所述的電子器件,其中所述聚合物基質為選自由下列物質組成的組的聚合物的基質:丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、環(huán)氧樹脂、苯乙烯、氟聚合物、乙烯醇和乙酸酯。
9.根據(jù)權利要求1所述的電子器件,其中所述聚合物基質是交聯(lián)的。
10.根據(jù)權利要求1所述的電子器件,其中所述電子器件為晶體管。
11.根據(jù)權利要求1所述的電子器件,其中所述電子器件為電容器。
12.一種電子器件,其包括至少一個導電電極和鄰近所述電極的電介質層;其中所述電介質層包含聚合物基質以及分散在所述聚合物基質中的SiO2顆粒;其中所述SiO2顆粒具有與它們的表面共價鍵合的有機官能團,并且其中所述有機官能團未與所述聚合物基質共價鍵合。
13.根據(jù)權利要求12所述的電子器件,其中所述有機官能團的分子量是1000或以下,并且符合以下化學式:
(-O-)xQ(-O-R1)y(-CH2-R2)??(I)?
其中Q為Si或P=O;
其中每個R1均獨立地選自由下列物質組成的組:氫、烷基和取代的烷基;
其中每個R2均獨立地選自由下列物質組成的組:氫、烷基、取代的烷基、烷氧基、取代的烷氧基;
其中當Q為Si時,x為1至3,y為0至2,和x+y=3;
其中當Q為P=O時,x為1至2,y為0至1,和x+y=2;并且
其中開氧鍵與所述SiO2顆粒的表面共價鍵合。
14.根據(jù)權利要求13所述的電子器件,其中Q為Si。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





