[發(fā)明專(zhuān)利]粘貼有光學(xué)基準(zhǔn)標(biāo)記的光學(xué)編碼器所用的度盤(pán)組件

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200680041506.0
• 申請(qǐng)日: 2006-11-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101535776A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-09-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐納德·K·邁克爾;唐納德·L·格蘭姆斯;威廉·G·索伯恩;斯圖亞特·A·道德森二世;基思·M·辛里奇斯;安德魯·高曼;約耳·M·皮特森;克利斯朵夫·C·瑞奇
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: GSI集團(tuán)公司
• 主分類(lèi)號(hào): G01D5/347
• 分類(lèi)號(hào): G01D5/347
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 王波波

1.一種應(yīng)用于光學(xué)位置編碼器的度盤(pán)的粘貼式標(biāo)記，包括：

柔性平面基板，經(jīng)尺寸調(diào)整和配置為貼附于位于預(yù)定位置處的度盤(pán)；以及

所述平面基板上的標(biāo)記圖案，該標(biāo)記圖案可與所述光學(xué)位置編碼器的光源結(jié)合操作，以產(chǎn)生可被所述光學(xué)位置編碼器的檢測(cè)電路感測(cè)到的光強(qiáng)分布。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘貼式標(biāo)記，其中所述標(biāo)記圖案是光學(xué)反射的。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的粘貼式標(biāo)記，其中所述反射標(biāo)記圖案包括已構(gòu)圖的反射金屬涂層。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的粘貼式標(biāo)記，其中所述基板是光學(xué)透明的，并且將已構(gòu)圖的反射金屬涂層放置于遠(yuǎn)離光學(xué)位置編碼器的光源和檢測(cè)電路的基板表面上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的粘貼式標(biāo)記，其中所述基板的表面具有微結(jié)構(gòu)圖案，并且已構(gòu)圖的反射金屬涂層已經(jīng)沉積于所述基板的表面上，以便創(chuàng)建形成所述反射標(biāo)記圖案并且相應(yīng)地進(jìn)行構(gòu)圖的反射金屬表面。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的粘貼式標(biāo)記，其中所述標(biāo)記圖案包括二元相圖。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘貼式標(biāo)記，其中所述標(biāo)記圖案包括衍射光學(xué)元件。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的粘貼式標(biāo)記，其中所述衍射光學(xué)元件包括波帶透鏡。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘貼式標(biāo)記，其中所述標(biāo)記圖案可操作用于漫反射來(lái)自光源的光線(xiàn)，使得光強(qiáng)分布在檢測(cè)器處具有預(yù)定的光功率，以表明檢測(cè)電路已經(jīng)遇到度盤(pán)的預(yù)定位置。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘貼式標(biāo)記，其中所述粘貼式標(biāo)記具有中心區(qū)域和外圍區(qū)域，所述中心區(qū)域具有旋光性，以產(chǎn)生能被檢測(cè)電路感測(cè)到的光強(qiáng)分布，所述外圍區(qū)域不具有旋光性并且其尺寸已被調(diào)整，以便在將所述粘貼式標(biāo)記應(yīng)用于度盤(pán)的過(guò)程中由安裝工具嚙合，同時(shí)還保持所述安裝工具與所述粘貼式標(biāo)記之間的分離。

11.一種用于光學(xué)位置編碼器的度盤(pán)組件，包括：

度盤(pán)；以及

如權(quán)利要求1所述的粘貼式標(biāo)記，所述粘貼式標(biāo)記應(yīng)用于位于預(yù)定位置處的度盤(pán)，使得所述粘貼式標(biāo)記的標(biāo)記圖案與光學(xué)位置編碼器的光源結(jié)合操作，以產(chǎn)生可被光學(xué)位置編碼器的檢測(cè)電路感測(cè)到的光強(qiáng)分布。

12.一種光學(xué)位置編碼器，包括：

光源；

檢測(cè)電路；以及

如權(quán)利要求11所述的度盤(pán)組件。

13.一種制作光學(xué)位置編碼器的度盤(pán)組件的方法，包括：

獲得預(yù)制的光學(xué)度盤(pán)基板，所述基板具有多個(gè)相對(duì)精細(xì)間隔開(kāi)的度盤(pán)刻度，所述度盤(pán)刻度與所述光學(xué)位置編碼器的光源結(jié)合操作，以產(chǎn)生可被光學(xué)位置編碼器中的檢測(cè)電路感測(cè)到的光強(qiáng)分布；

獲取預(yù)制的光學(xué)標(biāo)記，所述預(yù)制光學(xué)標(biāo)記具有其上形成標(biāo)記圖案的柔性標(biāo)記基板，所述標(biāo)記圖案可與光源結(jié)合操作以產(chǎn)生可被檢測(cè)電路感測(cè)到的光強(qiáng)分布；以及

將預(yù)制的光學(xué)標(biāo)記應(yīng)用于預(yù)定位置處的預(yù)制光學(xué)度盤(pán)基板，使得在將光學(xué)位置編碼器用作光學(xué)度盤(pán)和檢測(cè)器之間預(yù)定的相對(duì)位置的指示器的操作期間，標(biāo)記圖案可被所述檢測(cè)器檢測(cè)到。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，所述柔性標(biāo)記基板包括復(fù)合基板的一部分，所述復(fù)合基板包括貼附至所述柔性標(biāo)記基板上的手柄部分，其中將所述預(yù)制的光學(xué)標(biāo)記應(yīng)用于預(yù)制的光學(xué)度盤(pán)基板包括使用所述手柄部分將柔性標(biāo)記基板放置于預(yù)制的光學(xué)度盤(pán)基板上，并隨后去除所述手柄部分。

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，預(yù)制的光學(xué)標(biāo)記具有中心區(qū)域和外圍區(qū)域，所述中心區(qū)域具有旋光性，以產(chǎn)生能被檢測(cè)電路感測(cè)到的光強(qiáng)分布，所述外圍區(qū)域不具有旋光性并且其尺寸已被調(diào)整，以便由安裝工具嚙合使用，其中將所述預(yù)制的光學(xué)標(biāo)記應(yīng)用于預(yù)制的光學(xué)度盤(pán)基板包括使用所述安裝工具與預(yù)制的光學(xué)標(biāo)記的所述外圍區(qū)域嚙合，同時(shí)保持所述安裝工具和所述預(yù)制的光學(xué)標(biāo)記的中心區(qū)域之間的分離。