[發明專利]結合有高階像差校正的用于校正老視的眼鏡片有效
| 申請號: | 200680040370.1 | 申請日: | 2006-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN101297230A | 公開(公告)日: | 2008-10-29 |
| 發明(設計)人: | K·徹哈布;M·J·科林斯;J·H·羅夫曼;R·J·弗蘭克林;B·A·達維斯;X·程 | 申請(專利權)人: | 莊臣及莊臣視力保護公司 |
| 主分類號: | G02C7/04 | 分類號: | G02C7/04;A61B3/103 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 段曉玲;韋欣華 |
| 地址: | 美國佛*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 結合 有高階像差 校正 用于 眼鏡片 | ||
1.用于制備個體用眼鏡片對的方法,包括如下步驟:
a)通過提供至少一個遠距離固定靶,測量所述個體優勢眼的第一基礎屈光驗光單;
b)通過提供至少一個遠距離固定靶測量所述個體的非優勢眼的第二基礎屈光驗光單,和通過提供至少一個近距離固定靶來測量所述非優勢眼的近屈光驗光單;
c)通過提供至少一個遠距離固定靶來測量優勢眼的第一套高階波陣面像差;
d)通過提供至少一個近距離固定靶來測量非優勢眼的第二套高階波陣面像差;
e)將第一和第二套高階波陣面像差測量值中的每一套轉換成高度差;和
f)使用優勢眼的第一基礎屈光驗光單和高度差來提供第一眼鏡片,和使用非優勢眼的第二基礎屈光驗光單、近屈光驗光單和高度差來提供第二眼鏡片。
2.用于制備個體用眼鏡片對的方法,包括如下步驟:
a)通過提供至少一個遠距離固定靶,測量所述個體優勢眼的第一基礎屈光驗光單;
b)通過提供至少一個遠距離固定靶測量所述個體的非優勢眼的第二基礎屈光驗光單,和通過提供至少一個近距離固定靶來測量所述非優勢眼的近屈光驗光單;
c)通過提供至少一個遠距離固定靶來測量優勢眼的第一套高階波陣面像差;
d)通過提供至少一個遠距離固定靶來測量非優勢眼的第二套高階波陣面像差,和通過提供至少一個近距離固定靶來測量非優勢眼的第三套高階波陣面像差;
e)將第一套高階波陣面像差測量值的每一個轉換成第一高度差;
f)計算第二和第三套測量的高階波陣面像差的平均測量值,并將所述平均測量值轉換成第二高度差,和
g)采用針對優勢眼的第一基礎屈光驗光單和第一高度差來提供第一眼鏡片,和采用針對非優勢眼的第二基礎屈光驗光單、近屈光驗光單和第二高度差來提供第二眼鏡片。
3.用于制備個體用眼鏡片對的方法,包括如下步驟:
a)通過提供至少一個遠距離固定靶,測量所述個體優勢眼的第一基礎屈光驗光單;
b)通過提供至少一個遠距離固定靶測量所述個體的非優勢眼的第二基礎屈光驗光單,和通過提供至少一個近距離固定靶來測量所述非優勢眼的近屈光驗光單;
c)通過提供至少一個遠距離固定靶來測量優勢眼的第一套高階波陣面像差,和通過提供至少一個近距離固定靶來測量第二套高階波陣面像差;
d)計算第一套和第二套波陣面像差測量值的平均值;
e)將步驟d中計算的平均波陣面像差轉換成第一高度差;
f)通過提供至少一個遠距離固定靶來測量非優勢眼的第三套高階波陣面像差,和通過提供至少一個近距離固定靶來測量非優勢眼的第四套高階波陣面像差;
g)計算第三套和第四套波陣面像差測量值的平均值;
h)將步驟f中計算的平均波陣面像差轉變成第二高度差;和
i)采用針對優勢眼的第一基礎屈光驗光單和第一高度差來提供第一眼鏡片,和采用針對非優勢眼的第二基礎屈光驗光單、近屈光驗光單和第二高度差來提供第二眼鏡片。
4.根據權利要求1的方法制備的鏡片對,包括針對優勢眼的第一眼鏡片和針對非優勢眼的第二眼鏡片,其中所述第一眼鏡片結合了第一基礎屈光驗光單并包含校正第一套高階波陣面像差的光學區;所述第二眼鏡片結合了第二基礎屈光驗光單和近屈光驗光單并包含校正第二套高階波陣面像差的光學區。
5.根據權利要求2的方法制備的鏡片對,包括針對優勢眼的第一眼鏡片和針對非優勢眼的第二眼鏡片,其中所述第一眼鏡片結合了第一基礎屈光驗光單,并包含校正第一套高階波陣面像差的光學區;所述第二眼鏡片結合了第二基礎屈光驗光單和近屈光驗光單,并包含校正第二套高階波陣面像差和第三套高階波陣面像差的平均測量值的光學區。
6.根據權利要求3的方法制備的鏡片對,包括針對優勢眼的第一眼鏡片和針對非優勢眼的第二眼鏡片,其中所述第一眼鏡片結合了第一基礎屈光驗光單,并包含校正第一套高階波陣面像差和第二套高階波陣面像差的平均測量值的光學區;所述第二眼鏡片結合了第二基礎屈光驗光單和近屈光驗光單,并包含校正第三套高階波陣面像差和第四套高階波陣面像差的平均測量值的光學區。
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