[發明專利]用于進行MRI的非圓柱形RF線圈無效
| 申請號: | 200680039923.1 | 申請日: | 2006-10-03 |
| 公開(公告)號: | CN101297211A | 公開(公告)日: | 2008-10-29 |
| 發明(設計)人: | J·魏岑埃克;C·施羅德 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/3415 | 分類號: | G01R33/3415 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 宋獻濤;王英 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 進行 mri 圓柱形 rf 線圈 | ||
1、一種射頻線圈,包括:
非圓柱形共形表面(62、76),所述非圓柱形共形表面與磁共振對象基本一致;
多個導線環(60、71、72、73、74),布置在所述剛性的非圓柱形共形表面之中或之上,所述多個導線環用于對B1頻率的激勵做出反應而在所述磁共振對象中產生基本均勻的B1場。
2、權利要求1所述的射頻線圈,其中,當所述多個導線環(60、71、72、73、74)在受到B1頻率的激勵時,就定義出橫穿所述非圓柱形共形表面的離散電流密度,所述離散電流密度與所述磁共振對象中基本均勻的B1場對應。
3、權利要求2中所述的射頻線圈,其中,當所述多個導線環(60、71、72、73、74)在準靜態域中受到激勵時就定義出所述離散電流密度,沿著所述導線環的電容維持著以所述B1頻率定義的電流密度。
4、權利要求2中所述的射頻線圈,其中,至少一些導線環(60)通過彼此之間的互感進行電磁耦合。
5、權利要求1所述的射頻線圈,還包括:
一個或多個開關(80、82),與所述導線環(71、72、73、74)相連接,所述一個或多個開關有選擇性地切換,從而:(i)將所述多個導線環以串行互連結構的形式互連起來,或者,(ii)對所述導線環解耦,以便定義出解耦導線環的線圈陣列,第一種和第二種結構(i)和(ii)是可選擇的,它們都共振于B1頻率。
6、權利要求1所述的射頻線圈,其中,所述射頻線圈還包括:
一個或多個開關(80、82),與所述導線環(71、72、73、74)相連接,所述一個或多個開關有選擇性地切換,從而將所述多個導線環在(i)筒式發射振蕩器和(ii)接收線圈陣列之間進行配置。
7、權利要求6所述的射頻線圈,其中,所述一個或多個開關(80、82)在筒式發射振蕩器結構(i)中將所述多個導線環(71、72、73、74)進行電連接,在所述接收線圈陣列結構(ii)中將所述多個導線環斷開連接。
8、權利要求1中所述的射頻線圈,其中,所述非圓柱形共形表面(62、76)是剛性的且非平面的。
9、權利要求1中所述的射頻線圈,還包括:
多個負載補償導線環(90),布置在補償式非圓柱形共形表面(62)之中或之上,所述補償式非圓柱形共形表面與磁共振對象基本一致,所述多個負載補償導線環用于產生非均勻B1場,其對所述磁共振對象造成的負載B1非均勻性進行補償。
10、權利要求9所述的射頻線圈,其中,所述非圓柱形共形表面和所述補償式非圓柱形共形表面是同一表面(62)。
11、一種磁共振掃描儀,包括:
主磁體(20),在相關區域生成主B0磁場;
磁場梯度線圈(28),有選擇性地在主B0磁場上疊加磁場梯度;
權利要求1所述的射頻線圈(30、70),一致地包圍磁共振對象,并且有選擇性地在所述磁共振對象中產生基本均勻的B1域。
12、權利要求11所述的磁共振掃描儀,還包括:
負載補償射頻線圈(32),包括多個布置在補償式非圓柱形共形表面(62)之中或之上的負載補償導線環(90),所述補償式非圓柱形共形表面與磁共振對象基本一致,所述多個負載補償導線環用于在所述磁共振對象中產生非均勻B1場,其對所述磁共振對象造成的所述磁共振對象中B1場非均勻性進行補償。
13、權利要求11所述的磁共振掃描儀,還包括:
開關(80、82),用于將所述多個導線環(60、71、72、73、74)在發射筒式振蕩器和接收線圈陣列之間進行切換。
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