[發明專利]用于基于參考電平的寫入策略優化的設備和方法

無效

• 申請號: 200680039219.6
• 申請日: 2006-10-12
• 公開（公告）號: CN101297361A
• 公開（公告）日: 2008-10-29
• 發明（設計）人: R·弗盧特斯
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: G11B7/125
• 分類號: G11B7/125
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 李亞非;譚祐祥

1、具有優化的寫入策略控制的光學記錄設備(1)，該設備包括：

-用于發射輻射光束的輻射源(6)，以便在光學記錄載體(8)上記錄光學效應并從光學記錄載體上讀出光學效應，在根據包含一個或多個寫入參數(E、W、B、C)的寫入策略(50)的記錄環境中發射該輻射光束；

-用于讀出所記錄的效應的讀出單元(7)，以便提供讀出信號(40)，該讀出信號包括從記錄載體上的第一區反射的具有第一長度(211)的第一部分(21)，和從記錄載體上的第二區反射的具有第二長度(221)的第二部分(22)，其中從第一區到第二區的跳變被標記為前沿(23)，從第二區到第一區的跳變被標記為后沿(24)，

-位探測器，用于提供與讀出信號(40)相對應的調制位，

-處理單元，用于將調制位分組為調制位序列(a_k-4...a_k)，并且用于將讀出信號的每個調制位序列和參考電平(Rx，45)相關聯，該參考電平對應于給定的調制位序列的讀出信號(40)的平均幅度，

其中該設備還包括

-用于基于參考電平的值確定記錄載體上前沿(27，271)和/或后沿(272)的平均跳變移位的裝置，和

-用于基于參考電平的值設置寫入策略中的一個或多個寫入參數中的至少一個的裝置。

2、根據權利要求1的設備，包括用于從作為光學效應(211、221)的長度的函數的參考電平(Rx，45)中確定光學效應的非對稱性的裝置，以及用于基于所述所確定的非對稱性設置至少一個寫入策略(50)參數的裝置。

3、根據權利要求1的設備，其中一個或多個寫入參數包括功率電平(E、W、B、C)和/或功率電平持續時間。

4、根據權利要求1的設備，其中一個或多個寫入參數包括輻射光束中寫入脈沖的定時，該定時是與參考時鐘相關聯所獲得的。

5、根據權利要求1的設備，包括用于估算前沿和/或后沿的平均跳變移位的裝置，以及用于根據預定的規則優化寫入策略(50)中一個或多個寫入參數(E、W、B、C)中的至少一個的裝置。

6、根據權利要求1的設備，包括可操作地用于在可記錄介質上記錄一系列光學效應的控制裝置，并且其中讀出單元可操作地用于在記錄過程的第一部分期間讀取所述序列的第一部分，并且用于從所述序列的第一部分中獲得讀出信號，

該寫入策略中一個或多個寫入參數中的至少一個根據從所述序列的第一部分中獲得的讀出信號進行設置，

該控制裝置進一步可操作地用于在記錄過程的第二部分中記錄一系列光學效應，同時使用寫入策略中的該組參數。

7、用于光學記錄設備中的集成電路(IC)，該IC適用于根據所測量的讀出信號(40)的前沿(23)和/或后沿(24)的平均跳變移位來設置寫入策略(50)中的一個或多個寫入參數(E、W、B、C)，該平均跳變移位是基于參考電平(Rx，45)的值來確定的，該參考電平反映了對于給定的調制位序列(a_k-4...a_k)的讀出信號(40)的幅度。

8、用于控制光學記錄設備的計算機可讀代碼，控制該設備以根據所測量的讀出信號(40)的前沿(23)和/或后沿(24)的平均跳變移位來優化寫入策略(50)中的一個或多個寫入參數(E、W、B、C)，該平均跳變移位是基于參考電平(Rx，45)的值來確定的，該參考電平反映了對于給定的調制位序列(a_k-4...a_k)的讀出信號的幅度。

9、用于優化包括一個或多個寫入參數(E、W、B、C)的寫入策略(50)的方法，該方法包括下列步驟：

-提供讀出信號(40)，該讀出信號包括從記錄載體上的第一區反射的具有第一長度(211)的第一部分(21)，和從記錄載體上的第二區反射的具有第二長度(221)的第二部分(22)，其中從第一區到第二區的跳變被標記為前沿(23)，從第二區到第一區的跳變被標記為后沿(24)，

-提供對應于該讀出信號的調制位，該調制位被提供作為調制位序列(a_k-4...a_k)，

-將每個調制位序列和參考電平(Rx，45)相關聯，該參考電平反映了對于給定的調制位序列(a_k-4...a_k)的讀出信號(40)的工作平均幅度，

其中基于參考電平的值確定讀出信號中前沿(27，271)和/或后沿(272)的平均跳變移位，并且其中基于該平均跳變移位來設置寫入策略中的一個或多個寫入參數中的至少一個。