[發(fā)明專(zhuān)利]用于對(duì)調(diào)制電磁波場(chǎng)進(jìn)行解調(diào)的器件和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680038672.5 | 申請(qǐng)日: | 2006-10-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101310387A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-11-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | B·布特根 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 美薩影像股份公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/146 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/146 |
| 代理公司: | 上海專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 錢(qián)慰民 |
| 地址: | 瑞士*** | 國(guó)省代碼: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 調(diào)制 電磁波 進(jìn)行 解調(diào) 器件 方法 | ||
1.一種在半導(dǎo)體襯底(SUB1、SUB10)中適于檢測(cè)和解調(diào)入射調(diào)制電磁波場(chǎng)的像素器件,包括:
-檢測(cè)裝置(2),用于將所述入射調(diào)制電磁波場(chǎng)轉(zhuǎn)換成流動(dòng)電荷的電信號(hào),
-采樣裝置(LG、MG、RG、IG1、DG1、IG2、DG2;GS、DG10、IG10、DG20、IG20),用于在調(diào)制周期中以至少兩個(gè)不同時(shí)間間隔對(duì)所述流動(dòng)電荷的電信號(hào)進(jìn)行采樣,以及
-由所述采樣裝置采樣的電信號(hào)的至少兩個(gè)輸出節(jié)點(diǎn)(D1、D2;S1、S2),
其特征在于,
所述像素器件還包括
-解調(diào)裝置(4),包括所述至少兩個(gè)輸出節(jié)點(diǎn)和所述采樣裝置,所述采樣裝置具有第二傳遞裝置(LG、MG、RG;GS),以及
-接觸節(jié)點(diǎn)(K2),排列在所述檢測(cè)裝置與所述解調(diào)裝置之間,
所述檢測(cè)裝置(2)包括第一傳遞裝置(GM1;GM1.i;FGi;FDi;VGi),
所述第一傳遞裝置適于將所述流動(dòng)電荷的電信號(hào)傳遞到所述接觸節(jié)點(diǎn),而所述第二傳遞裝置適于在所述至少兩個(gè)不同時(shí)間間隔的每一個(gè)期間,將所述流動(dòng)電荷的電信號(hào)從所述接觸節(jié)點(diǎn)傳遞到分配給相應(yīng)時(shí)間間隔的所述至少兩個(gè)輸出節(jié)點(diǎn)。
2.如權(quán)利要求1所述的像素器件,其特征在于,所述解調(diào)裝置的尺寸小于所述檢測(cè)裝置的尺寸。
3.如權(quán)利要求1所述的像素器件,其特征在于,所述檢測(cè)裝置是光敏的。
4.如權(quán)利要求1所述的像素器件,其特征在于,所述第一傳遞裝置包括適于定義靜態(tài)漂移場(chǎng)的柵極結(jié)構(gòu)(GM1;GM1.i),其中所述靜態(tài)漂移場(chǎng)能夠?qū)⑺隽鲃?dòng)電荷的電信號(hào)傳遞到所述接觸節(jié)點(diǎn)(K2)。
5.如權(quán)利要求4所述的像素器件,其特征在于,所述柵極結(jié)構(gòu)(GM1;GM1.i)包括與所述半導(dǎo)體襯底(SUB?1)隔離的電阻性電極層以及用于沿所述電極層施加電勢(shì)差的至少兩個(gè)連接(K1、K2)。
6.如權(quán)利要求5所述的像素器件,其特征在于,所述電極層具有樹(shù)枝狀的形狀。
7.如權(quán)利要求5所述的像素器件,其特征在于,所述電極層的形狀或互補(bǔ)形狀較佳地為豎琴狀、梳狀、樹(shù)狀、蛇形、冰晶狀,或者是打孔的平面。
8.如權(quán)利要求5所述的像素器件,其特征在于,所述電極層包括材料(31),所述材料(31)包括一個(gè)或多個(gè)具有不同薄層電阻的材料。
9.如權(quán)利要求1所述的像素器件,其特征在于,所述第一傳遞裝置包括至少一個(gè)浮動(dòng)區(qū)域(FG2、...、FGn-1;FD2、...、FDn-1)和至少兩個(gè)接觸區(qū)域(FG1、FGn;FD1、FDn),所述接觸區(qū)域設(shè)有用于向所述至少兩個(gè)接觸區(qū)域施加電勢(shì)差的電觸點(diǎn)(K1、K2),所述接觸區(qū)域(FG1、FGn;FD1、FDn)與所述至少一個(gè)浮動(dòng)區(qū)域(FG2、...、FGn-1;FD2、...、FDn-1)電絕緣,但卻電耦合到所述至少一個(gè)浮動(dòng)區(qū)域中的至少一個(gè)。
10.如權(quán)利要求9所述的像素器件,其特征在于,所述第一傳遞裝置包括多個(gè)浮動(dòng)區(qū)域(FG2、...、FGn-1;FD2、...、FDn-1)的安排,所述安排使得相鄰浮動(dòng)區(qū)域彼此電絕緣,卻彼此電耦合。
11.如權(quán)利要求1所述的像素器件,其特征在于,所述第二傳遞裝置包括適于在所述至少兩個(gè)不同時(shí)間間隔的每一個(gè)期間,定義從所述接觸節(jié)點(diǎn)到分配給所述相應(yīng)時(shí)間間隔的所述至少兩個(gè)輸出節(jié)點(diǎn)的傳導(dǎo)通道的柵極電極(LG,MG,RG)。
12.如權(quán)利要求11所述的像素器件,其特征在于,所述柵極結(jié)構(gòu)的電阻性電極層是CCD柵極電極。
13.如權(quán)利要求1中任一項(xiàng)的像素器件,其特征在于,所述第二傳遞裝置包括具有至少兩個(gè)觸點(diǎn)的柵極電阻層(GS),以便在所述至少兩個(gè)不同時(shí)間間隔的每一個(gè)期間定義從所述觸點(diǎn)節(jié)點(diǎn)到分配給所述相應(yīng)時(shí)間間隔的所述至少兩個(gè)輸出節(jié)點(diǎn)的漂移場(chǎng),每個(gè)所述觸點(diǎn)定位在所述至少兩個(gè)輸出節(jié)點(diǎn)的每一個(gè)附近。
14.如權(quán)利要求13所述的像素器件,其特征在于,所述柵極電阻層具有樹(shù)枝狀的形狀。
15.如權(quán)利要求13所述的像素器件,其特征在于,所述柵極電阻層的形狀或互補(bǔ)形狀較佳地為豎琴狀、梳狀、樹(shù)狀、蛇形、冰晶狀,或者是打孔的平面。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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