[發(fā)明專利]用于介入性磁共振的標志物追蹤

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680038513.5
• 申請日: 2006-09-15
• 公開（公告）號: CN101292172A
• 公開（公告）日: 2008-10-22
• 發(fā)明（設計）人: S·克呂格爾;T·舍夫特
• 申請（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: G01R33/28
• 分類號: G01R33/28;A61B5/055
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 王英

1.一種用于基準標志物組件(30)的追蹤方法，包括：

測量由磁共振掃描儀(10)產(chǎn)生的B₀磁場在所述基準標志物組件(30)的明顯位置處的局部B₀磁場不均勻性；以及

如果所測量的局部B₀磁場不均勻性滿足警告標準，則發(fā)布警告。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的追蹤方法，還包括：

使用所述磁共振掃描儀(10)確定所述基準標志物組件(30)的明顯位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的追蹤方法，還包括：

根據(jù)所述基準標志物組件(30)的明顯位置，定位介入性器械(20)的操作尖端(32)，所述基準標志物組件包括與所述介入性器械連接的一個或多個基準標志物。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的追蹤方法，其中，所述基準標志物組件包括多個基準標志物，并且所述追蹤方法還包括：

使用所述磁共振掃描儀(10)確定所述基準標志物組件(30)的明顯定向；

重復確定所述明顯位置和所述明顯定向以追蹤所述基準標志物組件；以及

根據(jù)對所述基準標志物組件的追蹤來追蹤與所述基準標志物組件連接的介入性器械(20)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的追蹤方法，其中，所述基準標志物組件(30)中的多個基準標志物包括至少三個有源微線圈基準標志物。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的追蹤方法，還包括：

計算在所述確定明顯位置的步驟期間接收的磁共振信號的信噪比(SNR)；以及

如果所述SNR小于基于噪聲的警告閾值，則發(fā)布警告。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的追蹤方法，還包括：

計算確定所述明顯位置的指標的噪聲數(shù)值；以及

如果所述指標的噪聲數(shù)值滿足基于噪聲的警告標準，則發(fā)布警告。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的追蹤方法，其中，所述發(fā)布警告的步驟包括：

如果所測量的局部B₀磁場不均勻性大于警告閾值，則發(fā)布警告。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的追蹤方法，其中，所述測量局部B₀磁場不均勻性的步驟包括：

對符號相反的磁場梯度測量磁共振信號；以及

基于對所施加的符號相反的磁場梯度所測量的磁共振信號，來確定所述局部B₀磁場不均勻性。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的追蹤方法，其中，所述基于對于符號相反的磁場梯度所測量的磁共振信號，來確定所述局部B₀磁場不均勻性的步驟包括：

計算所測量的明顯位置之間的差值，所述明顯位置是從對于符號相反的磁場梯度的磁共振信號獲得的，并且根據(jù)所施加的梯度導出局部ΔB₀。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的追蹤方法，其中，所述測量局部B₀磁場不均勻性的步驟包括：

基于沿著三個互相不平行方向中的每一個對施加的符號相反的磁場梯度所測量的磁共振信號，確定在所述三個互相不平行的方向上的局部B₀磁場不均勻性分量。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的追蹤方法，其中，所述發(fā)布警告的步驟包括：

如果所述三個所確定的局部B₀磁場不均勻性分量中的任意一個超出警告閾值，則發(fā)布警告。

13.一種用于基準標志物組件(30)的追蹤系統(tǒng)，包括：

B₀均勻性追蹤檢驗器(54)，其測量由磁共振掃描儀(10)產(chǎn)生的B₀磁場在所述基準標志物組件(30)的明顯位置處的局部B₀磁場不均勻性；以及

用戶界面(42，77，78)，如果由所述B₀均勻性追蹤檢驗器測量的所述局部B₀磁場不均勻性滿足警告標準，所述用戶界面發(fā)布警告。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的追蹤系統(tǒng)，還包括：

追蹤處理器(50)，其使用所述磁共振掃描儀(10)執(zhí)行追蹤處理，以至少追蹤所述基準標志物組件(30)的明顯位置。