[發(fā)明專利]提高礦石、礦物和精礦的研磨效率的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200680037674.2 | 申請日： | 2006-08-08 |
| 公開（公告）號： | CN101282790A | 公開（公告）日： | 2008-10-08 |
| 發(fā)明（設計）人： | 格雷戈里·S·安德森;丹尼爾·C·阿里;約瑟夫·D·皮斯 | 申請（專利權(quán)）人： | 斯特拉塔技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | B02C4/00 | 分類號： | B02C4/00;B02C7/00;B02C15/00;B02C17/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 張平元 |
| 地址： | 澳大利*** | 國省代碼： | 澳大利亞;AU |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 提高 礦石 礦物 精礦 研磨 效率 方法 | ||
1.減小含有顆粒狀物的原料粒度的方法，該方法包括：
a)提供含有顆粒狀物的原料；
b)將原料加入到具有至少500kW功率的研磨機中，該研磨機具有至少50kW/立方米研磨機的研磨容積(是扣除軸和攪拌器的體積之后研磨機的內(nèi)容積)的比耗用功率，該研磨機包括研磨介質(zhì)，該研磨介質(zhì)包含具有不小于2.4噸/m3的比重和粒度在約0.8到8mm范圍內(nèi)的顆粒狀材料；
c)在研磨機中研磨原料；和
d)從研磨機中排出產(chǎn)物，該產(chǎn)物所具有的粒度范圍使得產(chǎn)物的D80是至少約20微米。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中從研磨機中排出的產(chǎn)物所具有的粒度使得產(chǎn)物的D80是約20-1000微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)是通過一種方法制造的人造研磨介質(zhì)，該方法包括一種或多種材料至另一種材料的化學轉(zhuǎn)變。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所要求保護的方法，其中人造研磨介質(zhì)包括陶瓷研磨介質(zhì)、鋼或鐵研磨介質(zhì)或以冶金爐渣為基礎的研磨介質(zhì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)具有在2.2到8.5噸/立方米范圍內(nèi)的比重。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)包括陶瓷研磨介質(zhì)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所要求保護的方法，其中陶瓷研磨介質(zhì)的比重是在2.4到6.0噸/立方米范圍內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)的比重是大于3.0噸/立方米。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)的比重是約3.2到4.0噸/立方米。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)的比重是約3.5到3.7噸/立方米。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所要求保護的方法，其中陶瓷研磨介質(zhì)包括氧化物材料。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所要求保護的方法，其中氧化物材料選自：氧化鋁、二氧化硅、氧化鐵、二氧化鋯、氧化鎂、氧化鈣、氧化鎂穩(wěn)定的二氧化鋯、氧化釔、氮化硅、鋯石、氧化釔穩(wěn)定的二氧化鋯、鈰穩(wěn)定的二氧化鋯或它們的混合物。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)是鐵或鋼研磨介質(zhì)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)是冶金爐渣研磨介質(zhì)。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中研磨介質(zhì)被添加到研磨室中，使所述研磨介質(zhì)占據(jù)研磨室內(nèi)空間的60％-90％體積。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中研磨機包括水平軸研磨機。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中被加入到研磨機中的原料所具有的粒度范圍使得原料的D80是30到3000微米。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所要求保護的方法，其中原料的D80是40到900微米。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中從該方法回收的產(chǎn)品具有20-700微米的D80值。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所要求保護的方法，其中所述產(chǎn)品具有從20-500微米的D80值。
21.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中相對于研磨機的容積，所述耗用功率是在50-600kW/m3的范圍內(nèi)。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所要求保護的方法，其中耗用功率是在80-500kW/m3的范圍內(nèi)。
23.根據(jù)權(quán)利要求21所要求保護的方法，其中耗用功率是在100-500kW/m3的范圍內(nèi)。
24.根據(jù)權(quán)利要求1所要求保護的方法，其中研磨機具有至少750kW的功率。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所要求保護的方法，其中研磨機具有1MW或更大的功率。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于斯特拉塔技術(shù)有限公司，未經(jīng)斯特拉塔技術(shù)有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200680037674.2/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
