[發明專利]粘合劑組合物、粘合劑層及其制造方法以及帶有粘合劑的光學構件有效
| 申請號: | 200680037642.2 | 申請日: | 2006-10-17 |
| 公開(公告)號: | CN101283069A | 公開(公告)日: | 2008-10-08 |
| 發明(設計)人: | 矢野浩平;井上真一;佐竹正之;諸石裕;中野史子 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | C09J133/06 | 分類號: | C09J133/06;C09J7/02;C09J11/06;C09J133/24;C09J135/02;C09J175/04;G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 李香蘭 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 粘合劑 組合 及其 制造 方法 以及 帶有 光學 構件 | ||
1.一種粘合劑組合物,其特征在于,
所述粘合劑組合物是相對含有50~98重量%由通式CH2=C(R1)COOR2表示的(甲基)丙烯酸系單體以及0.1~35重量%含氮單體作為單體單元的(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份,含有0.02~2重量份過氧化物以及0.02~2重量份異氰酸酯系交聯劑而成的,其中,R1為氫或甲基,R2為碳原子數2~14的烷基。
2.根據權利要求1所述的粘合劑組合物,其中,
所述含氮單體為含酰亞胺基單體及/或含酰胺基單體。
3.根據權利要求1或2所述的粘合劑組合物,其特征在于,
所述含氮單體為含酰胺基單體,作為單體單元,含有3~15重量%而成。
4.根據權利要求1~3中任意一項所述的粘合劑組合物,其中,
所述(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量為160萬~300萬。
5.根據權利要求1~4中任意一項所述的粘合劑組合物,其中,
所述粘合劑組合物可被用于光學構件。
6.一種粘合劑層,其特征在于,
所述粘合劑層是使權利要求1~5中任意一項所述的粘合劑組合物交聯而成的。
7.根據權利要求6所述的粘合劑層,其中,
所述粘合劑層的凝膠分率為45~95重量%。
8.根據權利要求6或7所述的粘合劑層,其中,
所述粘合劑層的厚度為1~15μm。
9.根據權利要求6~8中任意一項所述的粘合劑層,其中,
所述粘合劑層可被用于光學構件。
10.一種粘合劑層的制造方法,其中,
包括:
在支撐體的一面或雙面形成由權利要求1~5中任意一項所述的粘合劑組合物構成的層的工序;
對由所述粘合劑組合物構成的層進行過氧化物交聯處理的工序。
11.根據權利要求10所述的粘合劑層的制造方法,其中,
所述過氧化物交聯處理為分解50重量%以上所述過氧化物的處理。
12.根據權利要求10或11所述的粘合劑層的制造方法,其中,
所述粘合劑層的凝膠分率為45~95重量%。
13.根據權利要求10~12中任意一項所述的粘合劑層的制造方法,其中,
所述粘合劑層的厚度為1~15μm。
14.根據權利要求10~13中任意一項所述的粘合劑層的制造方法,其中,
所述粘合劑層可被用于光學構件。
15.一種帶有粘合劑的光學構件,其特征在于,
所述帶有粘合劑的光學構件是在光學構件的一面或雙面形成權利要求6~9中任意一項所述的粘合劑層而成的。
16.一種圖像顯示裝置,其是至少使用一張權利要求15所述的帶有粘合劑的光學構件的圖像顯示裝置。
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C09J133-00 基于有1個或多個不飽和脂族基化合物的均聚物或共聚物的黏合劑,其中每個不飽和脂族基只有1個碳-碳雙鍵,并且至少有1個是僅以1個羧基或其鹽、酐、酯、酰胺、酰亞胺或腈為終端;基于此類聚合物的衍生物的黏合劑
C09J133-02 .酸的均聚物或共聚物;其金屬鹽或銨鹽
C09J133-04 .酯的均聚物或共聚物
C09J133-18 .腈的均聚物或共聚物
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C09J133-26 ..丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺的均聚物或共聚物





