[發明專利]數字曝光裝置

無效

• 申請號: 200680037014.4
• 申請日: 2006-10-04
• 公開（公告）號: CN101283312A
• 公開（公告）日: 2008-10-08
• 發明（設計）人: 橋口昭浩;寺田和廣
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H05K3/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 朱丹

技術領域

本發明涉及數字曝光裝置，特別是涉及在記錄介質的兩面進行數字曝光的兩面數字曝光裝置。

背景技術

以往，在印刷電路襯底的電路圖案形成或SR形成的模擬量產兩面自動生產線中，因為用1臺曝光機裝填一個掩膜，在襯底的單面曝光，所以通常用曝光機+表背反轉機+曝光機的串聯結構即2臺曝光機和1臺表背反轉機構筑生產線(例如參照專利文獻1)。

如上所述，使用掩膜在襯底的兩面進行曝光的所謂模擬方式的曝光裝置中，使用與照片的放大同樣的原理，所以無法進行只將曝光區域的一部分放大、縮小、變形等的加工處理。此外，在曝光的前級進行襯底的對位，對該襯底進行曝光，所以具有無法對多個襯底同時進行并行處理的缺點。

另一方面，在使用數字光學系統、用根據圖像數據調制的光束對襯底進行曝光的所謂數字曝光機中，在曝光時不需要掩膜，只用表背面的數據的交換就能曝光，所以如果在1臺曝光機上連接使襯底反轉的反轉機，則僅此就能進行兩面曝光。

可是，數字曝光機與模擬曝光機相比，光源、數字光學系統(DMD、多面體等)和圖像處理系統的功能所需的成本高，所以具有如下缺點：用2臺曝光機的串聯結構組成系統時的成本與用1臺曝光機構成的兩面曝光系統相比，大幅度提高(例如參照專利文獻2)。

例如如圖14所示，用曝光機402將表面曝光，輸送的襯底401被反轉機將表背反轉，用曝光機406將背面曝光，由此能對表背兩面進行曝光。

可是，在專利文獻2的結構中，生產線整體需要2臺高價的曝光機，所以作為兩面系統，成為成本高的系統。

如上所述，以往，曝光處理能力和裝置的成本通常為折衷選擇的關系，但是本發明為了解決所述課題而提出，其目的在于提供一種低成本且處理能力高的數字曝光裝置。

專利文獻1：特開2004-205632號公報

專利文獻2：特開2002-341550號公報

發明內容

本發明考慮所述事實而提出，其目的在于提供一種低成本且處理能力高的數字曝光裝置。

根據本發明的一個方式，提供一種數字曝光裝置，其通過根據圖像信息調制的光束將記錄介質曝光，并記錄圖像，其特征在于，包括：曝光單元，其輸送所述記錄介質，同時在所述記錄介質上進行掃描曝光；輸送單元，其設置在與基于所述曝光單元的所述記錄介質的輸送方向正交的方向，沿著輸送路徑輸送所述記錄介質；第一待機臺，其設置在所述輸送路徑的一方，使曝光前的所述記錄介質待機；第二待機臺，其設置在所述輸送路徑的另一方，使曝光完畢的記錄介質待機；反轉單元，其從所述待機臺接受所述記錄介質，使所述記錄介質的表背反轉。

根據本發明的其他方式，提供一種數字曝光裝置，其通過根據圖像信息調制的光束將記錄介質曝光，并記錄圖像，其特征在于，包括：曝光單元，其輸送所述記錄介質，同時在所述記錄介質上進行掃描曝光；輸送單元，其設置在與基于所述曝光單元的所述記錄介質的輸送方向正交的方向，沿著輸送路徑輸送所述記錄介質；第一待機臺，其設置在所述輸送路徑的一方，使曝光前的所述記錄介質待機；第二待機臺，其設置在所述輸送路徑的另一方，使曝光完畢的記錄介質待機；反轉單元，其從所述待機臺接受所述記錄介質，使所述記錄介質的表背反轉，所述曝光單元具有載置被曝光的所述記錄介質且往復移動的曝光臺，在所述曝光臺上，第n片記錄介質結束表面曝光后，位于所述第一待機臺上的第n+1片所述記錄介質和所述第n片記錄介質分別同時由所述輸送單元輸送到所述曝光臺和所述第二待機臺，所述第n+1片記錄介質在所述曝光臺上將表面曝光的過程中，所述第n片記錄介質從所述第二待機臺輸送到所述反轉單元，背表反轉后，再次輸送到所述第二待機臺，在結束了表面曝光的所述第n+1片記錄介質輸送到所述第一待機臺的同時，所述第n片記錄介質輸送到所述曝光臺，接著，所述第n片記錄介質在所述曝光臺上將背面曝光，背面曝光結束后的所述第n片記錄介質從所述曝光臺經由所述第二待機臺向機外輸出，并且所述第n+1片記錄介質通過所述曝光臺輸送到所述第二待機臺，進而，第n+2片記錄介質向所述第一待機臺輸入。